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- 2023-07-07 发布于四川
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本发明涉及光掩模的制造方法和光掩模坯。通过如下方法由光掩模坯制造光掩模，该光掩模坯包括透明基板、包含硅且不含铬的第一无机膜和包含铬且不含硅的第二无机膜，该第二无机膜与该第一无机膜接触，该方法包括如下步骤：使用抗蚀剂图案通过氟系干蚀刻形成第二无机膜的图案，以及使用第二无机膜的图案通过氟系干蚀刻形成第一无机膜的图案。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113867098 A
(43)申请公布日 2021.12.31
(21)申请号 202110731603.9
(22)申请日 2021.06.30
(30)优先权数据
2020-1126
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