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本发明公开了一种Micro‑LED微显示器及其制备方法,该微显示器包括Micro‑LED芯片阵列和一块制备有重新分布层RDL的CMOS驱动基板。所述重新分布层RDL包括阳极、阴极以及金属外框:阳极为一个个独立分布的金属点阵,阴极为一系列行数或列数与阳极金属点阵的行数或列数相同的金属条,且所有的阴极金属条全部连接到像素阵列外的金属外框,形成共阴连接;其中,Micro‑LED芯片的p型欧姆电极与RDL的阳极金属点阵一一对应形成键合连接,且Micro‑LED芯片的n型欧姆电极与RDL的阴极金属条形成键
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116404027 A
(43)申请公布日 2023.07.07
(21)申请号 202310475901.5 H01L 27/12 (2006.01)
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