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本实用新型涉及一种应用于生产纳米材料的研磨装置,包括研磨料盘,所述研磨料盘的顶部中间位置呈凸起状,所述研磨料盘的底部通过支撑机构支撑,所述研磨料盘的内部分别设置有研磨机构以及松刮机构,所述研磨机构包括U型架,所述U型架的底部两端之间转动安装有研磨球,所述研磨球与研磨料盘内壁接触。本实用新型通过设置驱动机构,从而可以驱使研磨机构对纳米材料进行研磨处理,同时松刮机构可以将研磨过程中的纳米材料进行松刮,避免沾着在研磨料盘内壁上,影响正常研磨效率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214159860 U
(45)授权公告日 2021.09.10
(21)申请号 202023003383.8
(22)申请日 2020.12.15
(73)专利权人 四川赛尔科美新材料科技有限公
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