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- 2023-07-17 发布于四川
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本实用新型公开了一种最终抛光设备,所述设备包括:抛光台、设置在抛光台上表面的抛光垫、设置于所述抛光台下方的驱动轴、设置在所述抛光台的上方空间的抛光头和喷嘴;其中,所述喷嘴朝向所述抛光台上的抛光垫喷洒抛光液,并且喷洒范围至少覆盖所述抛光垫的中心位置至所述抛光垫边缘的区域。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214213444 U
(45)授权公告日 2021.09.17
(21)申请号 202022835880.8
(22)申请日 2020.12.01
(73)专利权人 西安奕斯伟硅片技术有限公司
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