光纤通信系统中散射损耗的仿真解析.docVIP

光纤通讯系统中散射消耗的仿真 摘要光纤的传输消耗是光纤通讯系统中一个特别重要的 问题，光纤通讯是跟着光纤消耗的不停降低而发展起来。而造成光纤 消耗的原由有好多，散射消耗作为此中之一，经过利用  Matlab  实现 对单模掺锗、掺氟两类光纤的瑞利散射消耗特征的  仿真剖析，为光纤 传输特征的研究供给理论依照有重要意义。 重点词散射消耗，Matlab 前言 跟着我国公民经济建设连续、迅速、健康地发展，通讯业务的种 类愈来愈多，信息传达的需求量愈来愈大。光纤通讯作为一门高新技 术家产，光纤通讯技术将逐渐普及，光纤通讯的应用领域将更为广阔。 在光纤应用中，尽可能增大光纤的最大传输距离拥有重要的意 义。消耗和色散是影响光纤最大传输距离的主要要素，光纤对光能量 的散射消耗是惹起消耗的主要原由之一。散射消耗分线性散射消耗和 非线性散射消耗，线性散射消耗又包含瑞利散射消耗和波导散射损 耗。 瑞利散射消耗是一种最基本的散射过程，是一种本征消耗，它和 本征汲取一同组成光芒消耗的理论极限值。本文主假如经过对瑞利散 射消耗的仿真，来为光纤的传输特征的研究供给理论依照。 瑞利散射消耗的仿真切现 2.1什么是瑞利散射消耗 散射消耗可分为线性散射消耗和非线性散射消耗两大类。所谓线性或非线性主假如指散射消耗所惹起的消耗功率与传输模式的功率 能否成线牲关系。 非线性散射消耗主要包含受激喇曼散射消耗和受激布里渊散射消耗。它们都与石英光纤的振动激发态有关。 线性散射消耗主要包含瑞利散射消耗和资料不平均惹起的散射 消耗，也即波导散射消耗。波导散射消耗是因为制造光纤资料的不均 匀性以及在光纤制造过程中，因为工艺技术问题，造成光纤构造上的 缺点，如光纤中的气泡、光纤的纤芯和包层的交界面不完美粗拙。圆 度不平均及裂缝等，使得这些构造上不完美的尺寸远大于波长，惹起 的与波长没关的散射消耗。 瑞利散射消耗是光纤的本征散射消耗，是一种最基本的散射过程，属于固有散射。这是由光纤资料密度的不平均或许内应力不平均造成折射率随即变化，这类不平均性或起伏在光纤制造过程中被固定下来，这些不平均尺寸比光波长还小，当光纤中流传的光照耀在这些不平均微粒上时，就会向各个方向散射。人们把这类粒子的尺寸比波长小地多时产生的散射称为瑞利散射。 2.2理论剖析 光纤的消耗主要来自于光纤资料对光的本征汲取以及光纤不完 善对光的散射消耗两个方面。此中汲取消耗来自于光纤资料的电子能 态跃迁或分子振动向的改变，分别称为紫外汲取和红外汲取；此外是 OH1等杂质离子对光的汲取。假如不考虑非线性的受激喇曼散射消耗 和受激布里渊散射消耗，散射消耗主要来自光纤资猜中不行防止的随 机密度或浓度颠簸惹起的瑞利散射消耗，以及芯包界面的不完美惹起 的散射消耗。光纤的消耗能够用式(1)表示 TRUV IROH IM (1) 式中，T为光纤的总消耗； R为瑞利散射消耗； UV为资料的紫外吸 收；IR职为资料的红外汲取； OH为OH 1离子对光的汲取； IM为不 完美惹起的散射消耗。 因为在1.55m低消耗窗口紫外汲取特别小，而当前的光纤制造技术已 经能够使光纤中OH1离子的浓度降低到109的水平，进而使其汲取损 耗大大降低 0.01dB/km，由芯包界面的不完美惹起的散射消耗也可 以经过制造工艺的改良加以克制。能够将式(1)中的UV、OH 、IM略 去，获得 T RIR (2) 这样，光纤的总消耗主要取决于瑞利散射项和红外汲取项。 红外 汲取项能够表示为 a (3) IR Bexp 式中，系数B、a依靠于光纤资料，波长一准时IR为常数。 瑞利散射项R和光纤中的光强散布成Pr正比关系，与波长的 次方成反比，能够写成 1ArPrdr R4 P (4) rdr 式中，Ar为瑞利散射系数，可经过对光纤预制棒的丈量获得。对光 纤中折射率为分层平均的状况，由式(4)能够获得 R 1 Aii (5) 4 i 式中，Ai为每层的瑞利散射系数，i为这一层的功率限制因子。 又已知对一般掺锗、掺氟的石英玻璃而言，其瑞利散射系数A与相对折射率的关系为 掺锗： 掺氟：  A A0 1 44 (6) A A0 1 41 (7) 式中，相对折射率和混杂浓度成正比。是A0未混杂的石英的瑞利散 射系数，表示为 3 882 A0npkBTf 此中n，p，kB，，Tf分别为资料的折射率，光弹系数，Boltzman常 数，绝热压缩比，及固化温度。本文中未混杂的石英的瑞利散射系数 取0.8dB/kmm4。 2.3瑞利散射消耗仿真 因为当前国内铺设量最大的是G652光纤，而纯二氧化硅芯单模 光纤正成为低消耗光纤制造发展的趋向，本文将剖析这两种光纤的瑞 利散射消耗特征。 掺锗单模光纤 图1G652光纤折射率散布表示图 对G652光纤，其芯层掺锗，包层为纯石英。图1为G