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- 2023-08-02 发布于四川
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提供了一种曝光机的曝光方法及显示基板,该曝光机的曝光方法应用于待曝光显示基板,所述待曝光显示基板包括阵列排布的多个子像素,所述曝光机的曝光方法包括:将玻璃基板分成至少一个曝光区域;将所述待曝光显示基板放置在所述玻璃基板上;将所述待曝光显示基板上相同的子像素放置在同一个曝光区域中。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 111596531 A
(43)申请公布日
2020.08.28
(21)申请号 20201
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