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- 2023-08-05 发布于四川
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本发明涉及一种基于氟硼荧的多孔有机聚合物及其制备方法与应用，所述基于氟硼荧的多孔有机聚合物是氟硼二吡咯类荧光发色基团与刚性结构基元在微乳液条件下通过Sonogashira偶联制备得到。该类材料内部包含荧光发色基团，交联的网状结构和多孔的结构特征，使其兼具丰富的活性位点和纳米级的颗粒尺寸，可应用于荧光探针、气体吸附、有机污染物光降解、放射性污染物的选择性吸附和光催化等领域。与现有技术相比，本发明制备的基于氟硼荧的多孔有机聚合物具有高热稳定性和化学稳定性，同时具有多孔特性、均匀的纳米尺寸。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116535620 A
(43)申请公布日 2023.08.04
(21)申请号 202310407120.2
(22)申请日 2023.04.17
(71)申请人 上海大学
地址 200444
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