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- 2023-09-06 发布于四川
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本发明涉及金属氧化膜形成用组成物、图案形成方法、及金属氧化膜形成方法。本发明课题为提供相对于已知的有机下层膜材料具有优良的干蚀刻耐性而且兼顾高程度的填埋/平坦化特性的金属氧化膜形成用组成物、使用了此组成物的图案形成方法、及金属氧化膜(抗蚀剂下层膜)形成方法。一种金属氧化膜形成用组成物,其特征为含有(A)金属氧化物纳米粒子、(B)为选自下列通式(I)、通式(II)及通式(III)中的一种以上表示的化合物及/或分子量5000以下的聚合物的流动性促进剂、及(C)有机溶剂,该(A)金属氧化物纳米粒子与该
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116694114 A
(43)申请公布日 2023.09.05
(21)申请号 202310194659.4 G03F 7/30 (2006.01)
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