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新型全电介质平板结构负折射性能的模拟分析的中期报告 本研究旨在研究新型全电介质平板结构的负折射性能，并探讨其应用前景。目前已完成前期文献调研和模拟仿真实验，基本掌握了该结构的理论特点和实验参数。 首先，我们通过对该结构进行数值模拟，发现其具有明显的负折射特性。在特定的频率范围内，平板结构可以使入射光线向反方向折射，实现了负折射的效果。此外，该结构对加工误差和色散等因素的容忍度较高，能够保持较好的折射性能。 然后，我们通过实验验证了平板结构的负折射性能，并进行了光学测量和分析。结果表明，平板结构的负折射效果与数值模拟的结果相符合，具有较好的实用性和可靠性。我们还对影响负折射效果的因素进行了分析，发现结构参数、入射角度和光波长度等因素对负折射效果具有很大的影响。 最后，我们还探讨了该结构在光学器件和信息处理等领域的应用前景。相对于传统光学器件，该结构具有更高的分辨率和更广泛的应用范围。在信息处理方面，负折射结构能够实现高效的光纤通信和激光刻录等应用，有着广阔的市场前景和应用前景。 综上所述，本研究已经初步验证了新型全电介质平板结构的负折射性能，并探讨了其在光学器件和信息处理等领域的应用前景。我们将在后续研究中进一步完善模拟实验，提高结构的稳定性和可靠性，为其应用和推广提供更多支持。