X 荧光镀层测厚仪校准规范.docxVIP

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  • 2023-10-11 发布于北京
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第 2 页 共 5 页 一、任务来源: 依据市监计量发【2022】70 号文件(市场监管总局办公厅关于印发 2022 年 国家计量技术规范项目制定、修订及宣贯计划的通知)下达的任务通知规定, 由中国计量科学研究院等五家单位负责《JJF1306-2011X 射线荧光镀层测厚仪》 校准规范的修订工作,修订工作于 2022 年年初开始,2023 年 9 月完成征求意见 稿。 二、修订背景、依据和目的 随着我国半导体、电子、通信行业的快速发展,许多产品都提出了对镀层厚 度进行精确控制的要求,大部分电子制造加工企业均配备了镀层分析测量设备。 这种广泛使用的镀层厚度测量仪器一种基于 X 射线荧光分析技术的比较式测量 仪器,为使其测量方法和量值传递统一,在 2011 年首次制定和实施了此类台式 仪器的国家校准规范:JJF1306-2011X 射线荧光镀层测厚仪校准规范。 近十年来,半导体及微电子技术的快速发展,特别是我国高铁、电力通讯的 迅猛发展,为满足现场测量需要,大力推动了手持式 X 射线荧光分析仪的产品 研发和市场应用,相比台式仪器,测量原理相同,主要优点包括体积小、携带 方便、使用简单、性价比高,导致每年的市场销售数量远远超过了台式仪器。 自 JJF1306-2011 校准规范发布实施以来,经过国内计量校准部门的实际应 用和反馈,总体上,具有较好的实用性和可操作性,其量值传递和溯源技

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