硅抛光片全自动湿法清洗设备的研制.pdfVIP

清 洗 世 界 第35卷第11期 试验研究 Cleaning World 2019年11月 文章编号：1671-8909 ( 2019) 11-0022-004 硅拋光片全自动湿法清洗设备的研制 祝 福 生 ，夏 楠 君 ，王 文 丽 ，郭 立 刚 ，赵 宝 君 (中国电子科技集团公司第四十五研宄所，北 京 101601) 摘 要 ：硅抛光片清洗的目的在于清除有机物沾污、表面颗粒、金属沾污、 自然氧化膜等。本文阐述了硅抛光 片湿法清洗的工作原理，并对硅抛光片全自动湿法设备的组成、结构及单元模块的主要功能进行了详细介绍。 关 键 词 ：硅 抛 光 片 ；湿 法 清 洗 ；表 面 颗 粒 ；兆声清洗 中 图 分 类 号 ：TN 305.2 文 献 标 识 码 ： A 0 引言 清洗洗液温度升高，颗粒去除率也提高，在一定温度下