远场超分辨光学系统、激光制造系统及成像分析系统.pdfVIP

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2023-10-18 发布于四川
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远场超分辨光学系统、激光制造系统及成像分析系统.pdf

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本发明涉及光学系统技术领域，提供一种远场超分辨光学系统、激光制造系统及成像分析系统。远场超分辨光学系统，包括：激光发射装置，所述激光发射装置用于发射激光光束；第一光束调制模块，所述第一光束调制模块用于将激光光束调制为环形能量分布光束；第二光束调制模块，所述第二光束调制模块用于将所述环形能量分布光束调制为可实现环形聚焦的锥形波前相位分布光束；所述激光发射装置、所述第一光束调制模块和所述第二光束调制模块依次同轴设置。本发明提供的远场超分辨光学系统，在能够实现纳米级特征形貌分辨率的聚焦光场基础上，实现

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116893525 A (43)申请公布日 2023.10.17 (21)申请号 202311149467.8 (22)申请日 2023.09.07 (71)申请人清华大学地址 100084