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TiO2ITO纳米薄膜光催化电极的MOCVD制备及其掺杂改性的研究的中期报告 中期报告： TiO2ITO纳米薄膜光催化电极的MOCVD制备及其掺杂改性的研究旨在通过金属有机化学气相沉积法（MOCVD）制备一种具有良好光电化学性能的TiO2ITO纳米薄膜光催化电极，并通过掺杂改性，进一步提高其催化性能。 本研究的中期进展如下： 1.成功合成出气相中金属有机化合物[Ti（OEt）4、In（Mepy）3、Sn（Me）4、O2]。通过X射线衍射和红外吸收光谱表征证明了该金属有机化合物的结构和组成。 2.尝试用MOCVD方法制备了TiO2ITO纳米薄膜，优化沉积参数，得到了较好的沉积效果。用扫描电镜和X射线衍射分析了所制备的材料的微观形貌和晶体结构。 3.进行了高温氧化还原处理，进一步提高薄膜的结晶度和催化性能。 4.尝试了不同的掺杂元素（如Cu、Ni等）的掺入，并探究其对TiO2ITO纳米薄膜的催化性能的影响。初步结果表明 Cu掺杂可以明显提高光催化降解亚甲基蓝（MB）的效果。 基于以上成果，我们将继续深入研究不同掺杂元素对薄膜催化性能的影响，以及优化制备方法，进一步提高TiO2ITO纳米薄膜光催化电极的催化性能。