基于胶体刻蚀的等离子体共振.doc

基于可转移手性HNVA薄膜的柔性手性装置 摘要 胶体刻蚀（CL）作为一种新型纳米加工技术，可被应用于低成本，大面积制备多种纳米结构阵列中，而这些纳米结构在等离子体共振领域展现出了良好性能。由于贵金属表面等离子体共振对光的选择性吸收、产生光学近场增强等物理效应，其在手性等离子体超材料的构筑及应用方面具有较大潜力。从胶体刻蚀开始，通过等离子体纳米结构，向手性超材料进发，展示了一个开发所有这三个研究领域的强大战略。 由Au、Ag纳米壳组成的空心纳米火山口阵列膜，可通过低成本且高效的胶体刻蚀技术制备出来。通过控制Au和Ag纳米壳的相对位置，可以产生不同的手性不对称性。由于不对称的电流振荡和电场分布，