PVD真空镀膜设备行业分析.docx

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目录

TOC\o1-1\h\z\u（一）PVD真空镀膜技术 1

（二）真空镀膜技术具体应用领域 2

（三）行业现状分析 4

（四）行业市场表现分析 5

（五）行业竞争格局分析 6

（六）行业与上下游的关系 6

（七）行业周期性、区域性、季节性特征 9

（八）进入本行业的主要障碍 9

（九）影响行业发展的有利因素和不利因素 10

（十）行业发展方向 11

（十一）总结 12

PVD真空镀膜机设备行业分析

（一）PVD真空镀膜技术

PVD真空镀膜技术，PVD

PVD真空镀膜技术，PVD是PhysicalVaporDeposition的缩写，意思是“物理气相沉

积”，指在真空条件下，用物理方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。

PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜，

三种主要的真空镀膜技术可以满足常生产、生活领域的所有常见基材（塑料、玻璃、金属、

三种主要的真空镀膜技术可以满足常生产、生活领域的所有常见基材（塑料、玻璃、金属、

薄膜、陶瓷等）的镀膜需要。近十多年来，真空离子镀技术发展最快，已经成为当代最先进

薄膜、陶瓷等）的镀膜需要。近十多年来，真空离子镀技术发展最快，已经成为当代最先进

的表面处理方法之一。

的表面处理方法之一。

类型 介绍

加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。

加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表

面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。

利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射

出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜新技术，将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离子体中进行。

离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜新技术，

将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离子体中进行。

如真空卷绕镀膜是一种利用物理气相沉积的方法在柔性基体上连续镀膜的技术，以实现柔性基体的一些功能性、装饰性属性。

如真空卷绕镀膜是一种利用物理气相沉积的方法在柔性基体上连续镀膜

的技术，以实现柔性基体的一些功能性、装饰性属性。

需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材，基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜是

需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材，基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜是

加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程

加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程

（

（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。溅射类镀膜，可以理解为利用电子或高

能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，

能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，

经历成膜过程，最终形成薄膜。离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种

经历成膜过程，最终形成薄膜。离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种

镀膜新技术，将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离子体

镀膜新技术，将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离子体

中进行的。离子镀大大提高了膜层粒子能量，可以获得更优异性能的膜层，扩大了“薄膜”

中进行的。离子镀大大提高了膜层粒子能量，可以获得更优异性能的膜层，扩大了“薄膜”

的应用领域，是一项发展迅速、受人青睐的新技术。广义来讲，离子镀膜的特点是：镀膜时，

的应用领域，是一项发展迅速、受人青睐的新技术。广义来讲，离子镀膜的特点是：镀膜时，

工件（基片）带负偏压，工件始终受高能离子的轰击，形成膜层的膜基结合力好、膜层的绕

工件（基片）带负偏压，工件始终受高能离子的轰击，形成膜层的膜基结合力好、膜层的绕

镀性好、膜层组织可控参数多、膜层粒子总体能量高，容易进行反应沉积，可以在较低温度

镀性好、膜层组织可控参数多、膜层粒子总体能量高，容易进行反应沉积，可以在较低温度

下获得化合物膜层。

下获得化合物膜层。

相对于PVD技术的三个分类，真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。PVD膜层赋予产品表面金属质感和丰富的颜色，并改善耐磨、耐腐蚀性，延