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本发明公开了一种抛光轨迹规划方法、抛光设备和计算机可读存储介质，所述方法包括：在抛光设备基于初始抛光轨迹的运行结束后，检测陶瓷品质参数；根据所述陶瓷品质参数对初始抛光轨迹进行修正，得到修正后的目标抛光轨迹；根据所述目标抛光轨迹确定目标抛光控制参数，根据所述目标抛光控制参数控制所述抛光设备下一轮运行。本发明通过检测到的陶瓷品质参数对初始抛光轨迹进行修正，以确定目标抛光控制参数，提高了抛光设备的控制参数调整的准确性，提高了陶瓷的抛光质量。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117484393A
(43)申请公布日2024.02.02
(21)申请号202311595162.X
(22)申请日2023.11.27
(71)申请人苏州汇川控制技术有限公司
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