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2024-03-02 发布于四川
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一种扫描离子束溅射镀膜装置及方法.pdf

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本发明涉及溅射镀膜技术领域，尤其涉及一种扫描离子束溅射镀膜装置及方法，它包括镀膜腔室、基片台、溅射离子源、溅射靶台和真空气路系统，还包括装卸片腔室和调节机构，所述装卸片腔室与镀膜腔室连通，所述调节机构包括辅助离子源和清洗离子源，所述基片台上还设置有用于改善基片膜厚均匀性的工艺修正机构。通过基片表面预备扫描、数据分析与处理、增材镀膜方案规划、动态离子束调整、实时监测与反馈调整、镀膜完成后的质量检验、数据记录和处理等步骤，来实现工件表面定点定量确定性增材处理。本发明可精确测量和控制单位时间内的溅射覆

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117626207A

(43)申请公布日2024.03.01

(21)申请号202311608991.7

(22)申请日2023.11.27

(71)申请人眉山职业技术学院

地址6200

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