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平板膜微滤半导体废水的实验研究的任务书

一、研究背景及目的

随着半导体制造工艺的不断发展，废水排放问题已成为半导体企业面临的重要环境问题之一。其中，含硅废水是半导体制造废水中的主要成分之一，其处理难度较大，通常采用多级深度处理技术才能满足排放标准。为了探索一种简便、高效、经济的半导体含硅废水处理方法，本次实验选择平板膜微滤技术进行研究。

本次实验的目的是研究平板膜微滤技术在半导体含硅废水处理过程中的应用，探究平板膜微滤对硅颗粒的过滤性能以及操作参数对过滤性能的影响，为半导体企业制定良好的含硅废水处理方案提供技术支持。

二、研究内容及方法

研究内容：

1.确定平板膜微滤技术的操作参数，包括滤料种类、操作压力、速度等参数等。

2.研究平板膜微滤技术在半导体含硅废水处理中的应用，探究平板膜对硅颗粒的过滤能力。

3.分析操作参数对平板膜微滤过程的影响，包括操作压力、速度等参数对过滤效果的影响。

研究方法：

1.设计平板膜微滤实验装置，包括滤料、压力控制装置、废水进出口等。

2.采集半导体含硅废水样本并进行前处理，包括预处理、调节pH值等。

3.调整操作参数，将含硅废水灌注到平板膜微滤装置中进行过滤，采集滤液并测定其去除率。

4.对实验结果进行数据分析，探究操作参数对过滤效果的影响，绘制关键参数对过滤效果的变化曲线。

三、研究意义

半导体含硅废水处理是当前半导体制造行业面临的重要环境问题，具有较高的实际应用价值。通过研究探究平板膜微滤技术在半导体含硅废水处理中的应用，有助于发掘新的废水处理技术，提高半导体企业的废水处理效率和成本效益，有助于保护环境和可持续发展。