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电极间距对防原子氧聚硅氧烷薄膜性能的影响.pdf

第30卷

第1期真空与低温

2024

年

1

月Vacuum

and

Cryogenics71

电极间距对防原子氧聚硅氧烷薄膜性能的影响

李毅,何延春,王虎,王兰喜,曹生珠,袁璐,王江伟,李中华*

(兰州空间技术物理研究所

真空技术与物理重点实验室,兰州730000)

摘要:与传统制备防护薄膜的方法相比,等离子体聚合法是一种更高效、干燥和简易的制备方法,可以在各种

基底上制备数百纳米厚的致密薄膜涂层。采用等离子增强化学气相沉积(PECVD)法在大面积柔性聚酰亚胺

Kapton基底上制备了聚硅氧烷防原子氧薄膜。用SEM、AFM、FTIR和XP

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