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场发射扫描电镜技术标书

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附件：场发射扫描电镜技术标书

一、设备用途

扫描电镜是一种多功能的仪器，广泛地用于材料的微观组织观察、微区成分分析、材料的断口分析、材料的晶粒度分析、夹杂物分析及织构表征等，可对导电及不导电的固体材料进行表面形貌的观察及成分分析。场发射电镜能够实现更高分辨率的形貌观察，可实现对超细晶材料尤其是纳米材料的表征。基于相关附件，也可以对材料在温度及应力作用下的动态变化进行原位观察。

仪器包括电子光学系统、真空系统、样品室和样品台、探测器及成像系统、图像处理系统、应用软件及数据处理软件、X射线能谱分析仪（EDS）、背散射电子衍射分析仪（EBSD）、原位加热台。

二、技术参数

1．运行环境

1.1工作温度：可以在15~25环境温度工作

1.2相对湿度：湿度小于60%RH时正常工作

1.3工作电压：在220V(±10%)、50Hz电压下，仪器可连续使用

2．电子光学系统

2.1电子枪：Schottky场发射电子枪

2.2加速电压：0.2kV~30KV，步长10V连续可调

2.3电子束流：束流连续可调，稳定性优于0.2%/h

2.4放大倍数：15倍~100万倍

2.5工作距离：5~50mm，粗调、精调两种模式

2.6物镜：无漏磁物镜，能有效观测磁性样品

2.7物镜光阑：具备自清洁功能

3．真空系统

3.1机械泵、分子泵、离子泵三级抽真空系统

*3.2真空模式：能够满足基本的成像、分析的高真空模式，同时满足原位加热台等附件工作的需要模式

3.3真空度：电子枪真空度优于10-7Pa、样品室高真空优于10-4Pa

3.4抽真空时间：不高于5min

4．检测器及成像系统

4.1成像模式：背散射成像、二次电子成像、任意比例混合模式成像

4.2检测器：电子探测器不少于3个，镜筒内二

6.2活动窗口：多个活动窗口，可同时显示背散射及二次电子图像

6.3图像格式：TIFF、BMP、JPEG等多种图像格式

6.4图像帧数：不小于256帧，可降噪处理

6.5能够进行数字动画记录

6.6具有图像注释、测量等图像处理功能

7．控制和数据处理系统

7.1基于以太网架构的数据传输系统

7.2软件平台适用于windows操作系统

7.3显示器：24”LED显示器

8．X射线能谱分析仪（EDS）

8.1能量探测器：电制冷硅漂移探测器（SDD）

*8.2有效采集面积：SDD晶体有效活区面积不小于30mm2，窗口有效面积不小于20mm2，可实现低电压或者小束流条件下的高质量、高效率分析

*8.3探测器定位：探测器由马达控制精确定位，软件可控，能够实时监测和控制采集计数率，保证不同样品的数据重复性和测试条件重复性的目的

*8.4能量分辨率：MnKα优于127eV，CKa优于50eV，FKa优于60eV

8.5元素分析范围：至少为Be4~U92

*8.6峰背比：优于20000:1

8.7谱峰稳定性：分辨率变化在1eV以内，48小时内峰位漂移小于1.5eV

8.8计数率：输出最大计数率大于800,000CPS，可处理最大计数率大于1,500,000CPS

8.9具有轻元素定量分析和修正功能，可对Be、B、C、N等进行浓度定量检测以及修正

8.10采集界面：采用32位和64位双系统，采集界面方便简单，智能化设定参数，兼容原有EBSD数据，能实现能谱的采集与定量分析、线扫描及全息面扫描，包含常规面分布、定量面分布和快速面分布、快速智能面分布等

*8.11定性分析：具备点、线、面扫描分析功能，可自动和手动进行全谱元素谱峰识别，并具有检验重叠峰剥离准确性以及合峰效应的有效方法，能够分析夹杂和偏析等微量元素和微量相

8.12定量分析：采用最先进的修正技术和虚拟标样数据库，系统能够自动有效修正元素之间的相互吸收，可对抛光表面或粗糙表面进行点、线和面的分析，谱峰稳定，数据重现性好，不需要多元素校准峰位。具备方便的虚拟标样分析方法，且可以得到高级的非归一化定量结果，各元素定量误差没有相互干扰，数据格式可以和电子探针等高级分析方式的数据直接对应；

*8.13智能软件系统：中英文任意切换的软件界面，能谱与电镜一体化，可实现自动读取和控制电镜参数，完整的离线能谱分析软件，具备实时跟踪能力和智能定性，定量分析能力，自动漂移校正

*8.14低电压分析：在电镜低电压条件下能正常分析，3KV下可获取轻元素的定性定量信息，5KV下具备虚拟标样数据库，可实现全谱定性定量分析

8.15系统可靠性：采用独立的图像采集处理器和波形采集处理器，各自独立封装，防止集成式设计存在的故障可能点多、更换零部件成本高的问题

8.16计算机：原装工作站，CPU四核，主频高于3GHz，三级缓存不小于8M，内存32G，硬盘500G*2，可实时备份，27”LCD显示器，可刻录DVD光