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石英玻璃;第一章：石英玻璃概述;1.1石英玻璃的定义与历史;1.2国内发展历史;5;;电光源;直拉单晶硅;工艺分类;第二章：光学石英玻璃及制备;光学石英玻璃：分为透射和反射用光学石英玻璃
透射用光学石英玻璃：光谱特性（吸收系数）、气泡等缺陷、双折射、条纹及颗粒结构、荧光性能、光学均匀性。
反射用光学石英玻璃：气泡等缺陷、双折射、热膨胀系数;2.2石英玻璃光谱特性
;第二章光学石英玻璃;反射光学石英玻璃的应用;石英玻璃[SiO4]构型;2.4石英玻璃热力学特性;;;生产原料：
四氯化硅(SiCl4);Ⅳ类：SiCl4在无氢的等离子焰中高温氧化、熔制成超高纯合成石英玻璃。;（1）含硅化合物沉积制备疏松体沉积
（2）采用氯、氦等气体干燥脱去疏松体中氢的含量
（3）采用区熔法使疏松体玻璃化
;工艺分类;第三章：光学石英玻璃关键性能探索;3.1光学石英玻璃的光学均匀性;项目;;水解反应速率氧化反应速率
O2载料：水解反应为主，料带区域发生氧化
H2载料：水解反应为主，从中心孔开始发生水解;28;均化处理：将石英玻璃高温重熔，在均温区内通过流动、扩散进行结构重调，达到成分均匀、结构一致;30;3.1.4光学石英玻璃的均化处理后;样品尺寸：Φ655mm×70mm
光学均匀性：2.1×10-6（通光口径Φ550mm）;热膨胀系数重要意义：引起面形变化，影响成像质量（石英玻璃500nm/m.℃）
;?;1974年中国建材总院顾真安院士带领团队采用卧式CVD工艺，成功研制低膨胀石英玻璃材料，并制定相关标准（JC227-1981QSD低膨胀石英玻璃管、JC-T679玻璃平均线性热膨胀系数试验方法）
2014年，我院率先采用立式气相掺杂工艺，开展低膨胀石英玻璃块体材料研究;;性能参数;;;羟基重要意义：影响石英玻璃光谱透过、激光阈值、耐温性能；对玻璃抗辐照性能是有益的;1#、3#：富氢
2#、4#：富氧;;700-800ppm损伤阈值较高
900ppm孤立羟基在辐照下移动，降低阈值;3.3.4光学石英玻璃的羟基含量对弱吸收影响;OH-羟基降低石英玻璃的耐温性能
高OH-材料在高温下会形成R-羟基，能有效地包裹碱金属，防止芯片污染;3.3.5光学石英玻璃的羟基的产生;石英玻璃总结;谢谢
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