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一、填空题
自由电子的能量与波数的关系式为〔
E(k)?
h2k2
2m0 〕,孤立原子中的电子能量〔大小为
mq4
E ? 0
n 8?
2h2n2
0
的分立能级〕,晶体中的电子能量为〔电子共有化运动〕所形成的〔准连续〕
的能带。
温度肯定时,对于肯定的晶体,体积大的能带中的能级间隔〔小〕,对于同一块晶体,当原子间距变大时,禁带宽度〔变小〕。
玻尔兹曼分布适用于〔非简并〕半导体,对于能量为E的一个量子态被电子占据的概率
f (E)?exp(EF)?exp(?E)
为〔B kT kT
0 0 〕,费米分布适用于〔简并〕半导体,对于能量为E的
1
f(E)?
1?exp(
E?E
F)
—个量子态被电子占据的概率为〔
k0T 〕,当EF 满足
E ?E ?2kT或E ?E ?2kT
〔C F 0 F V 0 〕时,必需考虑该分布。
半导体材料中的〔能带构造〔直接复合〕〕、〔杂质和缺陷等复合中心〔间接复合〕〕、〔样品外形和外表状态〔外表复合〕〕等会影响非平衡载流子的寿命,寿命值的大小反映了材料晶格的〔完整性〕,是衡量材料的一个重要指标。
Si属于〔间接〕带隙半导体。导带微小值位于布里渊区的〔100方向〕上由布里渊区中心点Г到边界X点的〔0.85倍〕处,导带极值四周的等能面是〔长轴沿100方向的旋转椭球面〕,在简约布里渊区,共有〔6〕个这样的等能面。
Ge属于〔间接〕带隙半导体。导带微小值位于布里渊区的〔111方向〕上由布里渊区边界L点处,导带极值四周的等能面是〔长轴沿111方向的旋转椭球面〕,在简约布里渊区,共有〔4〕个这样的等能面。
GaAs属于〔直接〕带隙半导体。导带微小值位于布里渊区中心点Г处,极值四周的等能面是〔球面〕,在简约布里渊区,共有〔1〕个这样的等能面。在布里渊区的〔111方向〕边界L点处,存在高于能谷值0.29eV的次低能谷,简约布里渊区一共有〔8〕个这样的能谷。
Si、Ge和GaAs能带构造的共同点:1)禁带宽度具有负温度系数2)价带顶位于布里渊区中心,k=0处,等能面不是球面,有轻重空穴之分。
有效质量是〔半导体内部势场〕作用的概括。由于晶体内部的各向异性,在k空间的三
1个主轴上,有效质量可以表示为〔 ?
1
1?2E 1
?、
?
1?2E 1
?、
?
1?2E
,一般
m* h2
x
?k2
x
m* h2
y
?k2
y
m* h2
z
?k2
z
?2E
xyz2状况下,m*,m*,m*是不等的〕。在能带底部,?k
x
y
z
2
为(正)值,即m*(?0);在能带顶部,
?2E
?k2
为(负)值,即m*(?0)。在E~k关系的拐点处,〔m*
nn n
n
??〕,说明此处电子〔不受外
电场作用,电子从外场获得的能量,全部释放给晶格〕。内层电子形成的能带〔窄〕,E~k
?2E ?2E
曲线曲率〔小〕,?k2
〔小〕,所以m*〔大〕。外层电子能带〔宽〕,
n ?k2
〔大〕,所以m*〔小〕,
n
共有化运动强,在外力作用下,可以获得更大的加速度。
E?E
一种晶体中导带底电子能量E与波矢K的关系为 c
h2k2
2A
,其中
Ec为导带底能
量,A是常数,则电子的有效质量:〔m?
n
? h2
(d2E)
dk2
?A〕。
?h2(k?k)2
?
E 0
B k
一维晶体中电子能量E与波矢K的关系为 ,其中0和B是常数,则电
1dE 2h
子速度:〔v?
? 〕。
hdk B
半导体的陷阱中心使其中心光电导灵敏度〔提高〕,并使其光电导衰减规律〔延长衰减时间〕。
当系统处于热平衡状态,也不对外做功的状况下,系统〔每增加一个电子〕所引起系统自由能的变化,等于系统的化学势,也就是等于系统的费米能级。费米能级标志了〔电子填充能级〕的水平。它主要受〔掺杂浓度〕、〔掺杂种类〕和〔温度〕的影响。在确定零度时,
E?E
F
的能级〔没有〕电子占据;而E?E
F
的能级〔完全被〕电子占据。随着温度的升
高,电子占据E?E
F
的能级概率〔增大〕,空穴占据E?E
F
的能级概率〔增大〕。
二、选择题
施主杂质电离后向半导体导带供给〔B〕,受主杂质电离后向半导体价带供给〔A〕,本征激发后向半导体供给〔AB〕。A.空穴B.电子
室温下,半导体Si掺硼的浓度为1014cm-3,费米能级〔B〕;连
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