原创力文档标题PECVD工艺原理及操作简介主要内容1最基础原理介绍2工艺流程概述3设备构造4根本操作概述5特殊处理工艺部报告人6系统差异和特点7工艺优势8成本效益分析9结论10参考文献
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PECVD工艺原理及操作
名目一．根本原理二．工艺流程三．设备构造四．根本操作五．特别处理工艺部报告人:2
根本原理?PECVD：PlasmaEnhancedChemicalVapourDeposition等离子增加化学气相沉积?等离子体：气体在肯定条件下受到高能激发，发生电离，部格外层电子脱离原子核，形成电子、正离子和中性粒子混合物组成的一种形态，这种形态就称为等离子态即第四态。
工艺部报告人:3
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