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共晶理论及模拟软件介绍
摘要
高能含能材料CL-20具有优异的爆轰性能，但是其过高的机械感度，会影响武器使用的安全性和稳定性，因此，需对CL-20采用降感处理。本论文基于共晶化降感思路，用分子模拟的手段将CL-20分子与DNDA5分子在分子层面结合，形成稳定的分子间作用力，并预测共晶体空间群晶胞结构，模拟晶体生长形貌。
通过MaterialsStudio模拟软件中的DMol3模块对优化后的CL-20分子和DNDA5分子计算表面静电势能。基于分子表面静电势，选用CL-20中的H与DNDA5中的NO2之间形成氢键的原则，采用Forcite模块优化搭建共1
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