现代光电子技术课件第4章调制技术.pptx

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现代光电子技术课件第4章调制技术.pptx

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第1章从光量子到光电子

第2章激光技术

第3章激光光纤通讯

第4章调制技术

第5章光电探测技术

第6章光伏技术

第7章激光应用技术

第8章集成电路技术

§4.1电光效应

§4.2电光调制技术

§4.3磁光效应

§4.4声光效应第4章调制技术

§4.1电光效应

4.1.1线性电光效应

4.1.2KDP晶体第4章调制技术

4.1.1线性电光效应第4章调制技术

4.1.2KDP晶体第4章调制技术

§4.2电光调制技术

4.2.1KDP晶体的纵向调制第4章调制技术

§4.2电光调制技术

4.2.1KDP晶体的纵向调制第4章调制技术

4.2.2铌酸锂晶体的横向调制第4章调制技术

4.2.3改变直流偏压对输出特性的影响第4章调制技术

4.2.4二次电光效应第4章调制技术

4.2.5晶体的电光效应实验第4章调制技术

§4.3磁光效应

4.3.1磁光调制技术第4章调制技术

§4.3磁光效应

4.3.1磁光调制技术第4章调制技术

§4.3磁光效应

4.3.1磁光调制技术第4章调制技术

4.3.2晶体的法拉第效应实验第4章调制技术

§4.4声光效应

4.4.1声光衍射效应

4.4.2拉曼—奈斯声光效应

4.4.3布拉格声光效应

4.4.4驻波型声光器件衍射光强的调制度

4.4.5声光器件

4.4.6晶体的声光效应实验第4章调制技术

4.4.1声光衍射效应第4章调制技术

4.4.2拉曼—奈斯声光效应第4章调制技术

4.4.3布拉格声光效应第4章调制技术

4.4.4驻波型声光器件衍射光强的调制第4章调制技术

4.4.5声光器件第4章调制技术

4.4.6晶体的声光效应实验第4章调制技术

第4章调制技术

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