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盐城工学院本科生毕业论文2014
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激光刻蚀法织构CeO2基电解质表面的制备工艺及性能研究
激光刻蚀法织构CeO2基电解质表面的制备工艺及性能研究
摘要：使用干压成型法制备GDC电解质，再通过1w，2w，3w的激光强度对胚片表面进行激光刻蚀制备出不同表面形貌的电解质。研究不同激光强度对电解质表面形貌的影响，以及对电解质材料电化学性能的影响。结果显示：不同激光强度的刻蚀使得电解质的表面积增加，激光强度越大，电解质的表面积越大。在激光强度为1w，2w，3w下的刻蚀电解质样品面积比未经刻蚀的电解质样品表面积增大了1.16,，1.41，1.84倍。800℃下以1w，2w，3w功率的
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