不同微观形貌的zno薄膜的制备及其表征 .pdfVIP

不同微观形貌的zno薄膜的制备及

其表征

一、不同微观形貌的ZnO薄膜的制备

1、水热法制备ZnO薄膜水热法是一种常用的制备

ZnO薄膜的方法，它主要是以过渡金属化合物为前驱体，在

水热条件下进行热处理而生成ZnO薄膜。其制备步骤如

下：（1）将镍磁性载体放入水中，加入适量的氨水，然

后再加入经过混匀的Zn(NO3)2·6H2O溶液，搅拌至溶液变

得浑浊；（2）将溶液加热至100℃，保持温度维持

30min；（3）将溶液冷却至室温，然后将其过滤，洗涤几

次后晾干；（4）将上述过滤洗涤后的样品加热至400-

500℃，维持2h，即可生成ZnO薄膜。

2、溶胶-凝胶法制备ZnO薄膜溶胶-凝胶法是一种制

备有机-无机复合薄膜的方法，也可以用于制备ZnO薄膜。

其制备步骤如下：（1）将Zn(NO3)2·6H2O和溶剂（如乙

醇）混合搅拌至无明显沉淀，得到溶胶液；（2）将上述

溶胶溶液放入采用水溶性表面活性剂制备的乳液中，然后

搅拌均匀，使溶胶溶液充分混合，以得到溶胶-凝胶液；

（3）将上述混合液滴在固定的基板上，然后在室温下晾

干，经过低温烘干（60℃），即可得到ZnO薄膜。

3、PVD法制备ZnO薄膜PVD（PhysicalVapor

Deposition）是一种物理蒸镀技术，可以利用原子态或分

子态的物质，以真空方式到达指定表面，并形成薄膜。其

制备步骤如下：（1）将已装载ZnO粉末的真空管放入真

空容器中，并对真空室进行精确真空；（2）使用直流供

电或激光加热，将ZnO粉末熔化；（3）将熔化的ZnO粉

末快速沉积在温度控制的表面上，形成ZnO薄膜。

二、不同微观形貌的ZnO薄膜的表征

1、X射线衍射（XRD）表征X射线衍射是一种常用的

表征薄膜晶体结构的方法，其原理是通过观察薄膜表面所

反射的X射线，来判断薄膜晶体结构的种类及其结构参

数。XRD表征可以证明薄膜表面的晶体结构是否是ZnO，也

可以检测出晶体结构的晶粒大小、晶格常数和晶体的晶面

等参数。

2、扫描电子显微镜（SEM）表征SEM是一种常用的表

征薄膜微观形貌的方法，它主要是通过扫描电子显微镜来

观察样品的微观形貌。SEM表征可以观察出ZnO薄膜的表面

结构、表面形貌、缺陷等，为后续应用提供参考。

3、表面结构表征表面结构表征是检测薄膜表面结构

的主要方法，可以使用硅模压制片或XPS（X射线光电子能

谱）等技术检测薄膜表面原子结构、表面活性位等信息，

以确定ZnO薄膜的表面性质及其作用机理。

4、表面电性能表征表面电性能表征是检测ZnO薄膜

电性能的常用方法，可以使用电化学测试、SAR（表面活性

剂活性指数）测试等技术，检测ZnO薄膜的电导率、电阻

率、表面活性等性质，以确定其电性能的优劣程度。

5、光学表征光学表征是检测ZnO薄膜光学性质的常

用方法，可以使用可见光、紫外光等光源，通过UV-Vis光

谱仪、PL仪等仪器检测ZnO薄膜的反射率、吸收率等参

数，以确定其光学性质。