- 1、本文档共7页,可阅读全部内容。
- 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
- 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载。
- 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
- 5、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
- 6、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 7、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 8、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
实习(调研)报告
一、ITO薄膜的性能
氧化铟锡(ITO)薄膜是一种重参杂、高简并n型半导体氧化物薄膜,由于其
[9]
具有低电阻率、抗擦伤、良好的化学稳定等优点,已经广泛应用于平板显示器、
太阳能电池、汽车挡风玻璃以及电子屏蔽等诸多领域。是按照质量比为的比例为
InO:SnO=9:1的比例,在氧化铟中掺杂氧化锡,并采用一定的热处理工艺得到的
232
一种超细粉体材料。该材料是一种型宽禁带半导体,禁带宽度Eg=3.5eV,禁带宽
4-1
度值对应的波数为2.8×10cm,波长为365nm,已经在紫外线的范围内。用其制作
的薄膜仃膜对可见光的透过率超过90%,对紫外线的吸收率大于85%,对红外线反
1
【】
射率大于70%。其晶体结构属于立方铁锰矿结构。
二、ITO薄膜的应用
ITO薄膜具有优良的光电性能,对可见光的透过率达95%以上,对红外光的反
射率70%,对紫外线的吸收率≥85%,对微波的衰减率≥85%,导电性和加工性能极
好,硬度高且耐磨耐蚀,因而在工业上应用广泛,在高技术领域中起着重要作用。
主要用途有:
2.1用于平面显示
ITO薄膜的透明导电性及其良好的电极加工性能,所以它作为液晶显示器用的
透明电极获得高速发展,约占功能膜的50%以上,例如液晶显示(LCD)、电致发光显
示(ELD)、电致彩电显示(ECD)等。目前,在各类显示器中,LCD的产值仅次于显像
管(CRT)。随着液晶显示器件的大面积化、高等级化和彩色化,LCD将超过CRT成
为显示器件中的主流产品。因而ITO薄膜主要用于高清晰度的大型彩电、计算器、
计算机显示器、液晶和电子发光屏幕等。
2.2用于交通工具风挡
ITO薄膜能除雾防霜,是一种典型的透明表面发热体,可以用作汽车、火车、电
车、飞机等交通工具的风挡,用于陈列窗、溜冰眼镜、双引自行战车及医疗喉镜。
还可以用作烹调用加热板的发热体,也可以用于炉门、冷冻食品的显示器及低压
钠灯等。
2.3用于太阳能方面
ITO薄膜用于异质结SIS太阳能电池顶部氧化物层,可以得到高的能量转换效
率,例如ITO/SiO/P-Si太阳能电池可以产生13%~16%的转换效率。ITO玻璃还可
2
以用于Si太阳能电池的反射涂层以及用于异质结型A-Si基太阳能电池的透明电
极。具有电致变色(EC)的灵巧窗的典型结构是在普通白玻璃上沉积多层膜,其内
外层为ITO膜。研究表明,EC玻璃可使建筑物内暖气、冷气和照明等能耗减少50%
以上。
2.4用于微波屏蔽和防护镜
ITO薄膜有良好的微波屏蔽作用,能防静电,可用于屏蔽电磁波的地方,如计算
机房、雷达的屏蔽保护区,甚至可用于防雷达隐形飞机上。茶色ITO薄膜是铟、锡
氧化物的新品种,它能防紫外线和红外线,滤去对人体有害的紫外波段,因此镀IT
O膜的玻璃镜片可作特殊防护镜。【2】
三、ITO薄膜的主要制备方法
ITO导电薄膜是用物理的或化学的方法在基体表面上沉积得到。基体材料一般
采用玻璃,如采用低温溅射工艺制备这种薄膜,基体也可以采用塑料等聚合物材
料。基体的热膨胀系数对膜的性质有较大的影响,所以选择基体时应考虑基体和
莫的热膨胀系数的匹配问题【3】
1.1磁控溅射法
磁控溅射法是利用惰性气体离子轰击靶材(一般为高密度的铟锡氧化物靶材),
轰击下来的原子沉积到衬底上形成薄膜。关于这方面的研究论文很多[11~16]
磁控溅射法采用的靶材有IT靶和ITO靶两种。IT靶存在一系列缺点,例如由于放
电后滞现象而难于控制溅射过程、膜的重复性差、膜电阻对溅射过程中氧分压的
波动过分敏感,溅射得到的膜需要再进行热处理等。而TO靶正好能克服IT靶的上
述缺点。因此磁控溅射法中ITO靶材逐渐代替IT靶材而成为靶材的主流。但ITO靶
材亦存在一些问题,例如沉降速率低、靶材表面严重飞弧、溅射过程中靶材表面
很容易结瘤,而进一步降低溅射速率、靶材制作
文档评论(0)