超快时间分辨光电子显微镜技术及应用 .pdf

超快时间分辨光电子显微镜技术及应用

20世纪20年代末，电子物理世界发生了两个重要事

件：(1)戴维森(Davisson)和革末(Germer)实验上利用低速电子

入射镍晶体，得到电子衍射图案，从而直接证实了德布罗意

的波粒二象性理论；(2)布什(Busch)发表了有关磁聚焦的论

文，指出电子束通过轴对称电磁场时可以聚焦，类似于透镜

对光场的聚焦作用。这两个重要事件为电子显微镜的出现做

好了理论准备，但是电子显微镜并没有立即到来。反而在阴

极射线示波管研究工作上，鲁斯卡(Ruska)和克诺尔(Knoll)在

电子成像方面有了突破，他们利用磁透镜装置实现了对热离

子阴极的成像。因此，鲁斯卡和克诺尔的工作被认为是透射

电子显微镜的原型。同时，通用电力公司的布吕克(Brüche)

和约翰逊(Johannson)在非真空下利用低能电子在轴对称电场

下也实现了对阴极的成像。而布吕克和约翰逊的工作则被认

为是表面电子显微镜的开始。

2现代显微成像技术

为了探究纳米世界，很多研究者致力于发展高空间分辨能力

的成像技术。人们提出两种主要途径解决成像过程中阿贝衍

射极限问题：(1)减小探测波长：对于光子而言，由于透镜等

光学元件的限制，极紫外光子的应用较为困难。而对于电子

而言，其拥有相对于光子更短的波长，因此电子显微镜拥有

更高的成像空间分辨能力；(2)采用近场探测技术：基于倏逝

场垂直于样品表面方向快速衰减的特点，通过探测局域倏逝

场的方式来提高分辨能力。例如扫描近场光学显微镜(SNOM)

将光学显微镜的空间分辨率提高到几十纳米量级。

由于电子显微镜成像在空间分辨上的突出优势，已经被广泛

应用于不同研究领域。根据探测信号电子显微镜分成几类：

图1(a)中，扫描透射电子显微镜(STEM)探测透过电子，在样

品结构成像基础上可以集成电子能量损失谱(EELS)，将空间

信息和能谱分辨有机结合；图1(b)中，扫描电子显微镜(SEM)

探测二次电子(SEE)对样品形貌进行成像。这两种电子显微镜

中入射电子能量很高，使得大量价带电子激发至导带，利用

这些导带电子与空穴复合后所产生的光子可以对样品阴极

发光(CL)谱分析；图1(c)中，光电子显微镜(PEEM)则是探测

光发射电子，利用光子激发的特性，可以对结构表面形貌、

组分差异等进行探测。除此之外，基于多光子光电发射过程

还能对光场模式进行成像，这就大大拓宽了光电子显微镜的

应用范围。

图1(a)透射电子显微镜示意图，整合EELS对能谱信息进行

分析；(b)扫描电子显微镜示意图，利用光子能谱仪对阴极发

光谱进行分析；(c)光电子显微镜示意图

3光电子显微镜介绍

光电子显微镜是一种基于光电效应的对样品表面的光电子

发射分布进行成像的电子显微镜。

在此，我们简要介绍光电子显微镜的发展过程。首先，早期

简单的发射显微镜是由静电三极管物镜(双电极和样品)、微

通道板(MCP)、荧光屏探测器和一个样品操纵台组成的。为

了进一步完善发射显微镜，在改进版本中将三极管物镜换成

四极管物镜(3个电极和样品)，同时加入投影镜来实现成像

的放大。为了校正轴向像散，在物镜上装备像散校正装置来

提高成像质量。上面描述的装置只能在有限放大倍率下对样

品进行真实空间成像，如果在物镜与投影镜之间加入中间透

镜，这个中间透镜可以将物镜的后焦面成像到投影镜的物

面，从而对倒空间电子衍射图样进行成像。恩格尔(Engel)设

计的光电子显微镜系统(图2(a))就是基于这种三透镜系统，

样品与显微镜之间加载20kV高压，一个固定孔径用来限制

能量超过2eV的电子发射角度。当电子经过投影镜后将被减

速到2keV来优化微通道板的灵敏度。这套系统可以实现

400μm视场下最高100nm的空间分辨率，也是Staib设

备公司的商用光电子显微镜(图2(b))的前身。另一种静电三

透镜系统是Grzelakowski基于静电低能电子显微镜(LEEM)

发展而来，之后被Focus公司改进为IS-PEEM商用光电子

显微镜(图2(c))。这种系统的样品架集成了四极管阴极透镜

(IS)，物镜像面有一个连续可调光阑用来选择成像区域，放

大倍率利用中间透镜在20倍到7200倍之间调节，同时视

场可从直径2.5μm调节到1800μm，最后通过微通道板

(MCP)和YAG闪耀晶体实现图像探测。Elmitec公司则是结

合电子能量分析仪在真实空间(图2(d))和倒空间(