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技术状态管理在集成电路产品中的应用

摘要：技术状态管理以实现芯片产品全方位管理为宗旨，是技术状态管控的系

统化、文件化的活动。集成电路项目管理人员运用技术状态管理在集成电路产品

中的有效应用，不仅可以提高芯片标准化质量，同时还有助于完善产品标准化建

设，补充生产数据资料、把控生产周期、降低生产成本，提高集成电路产品的可

靠性、稳定性。

关键词：技术状态管理；集成电路产品应用；Calibre文档管理

引言

随着集成电路作为技术发展的基础，愈来愈受到国家的重视。近年来，随着

国内人工智能、5G通信、云计算、物联网等前沿应用领域成长迅速，我国集成电

路市场需求快速攀升。与此同时对于需求日益旺盛的集成电路制造而言，最关键

的点在于客户的设计版图正确复刻至mask(掩模板)上，所以相关的电路图和版图

检查技术文档管理显得尤为重要。

技术状态项的1选取及控制

技术状态项是指在集成电路技术状态管理过程中，能作为单个实体且可以单

独管理其功能特性的硬件、软件以及集合体。在对技术状态进行选择时，应遵循

以下几个方面：第一，重要性。对于影响产品性能、质量以及整体性能的重要元

器件，要将其列为重要元素；第二，核心工艺所需材料。制造工艺是影响元器件

功能的核心因素之一，而工艺又包含材料、参数、设备以及环境因素等，其中材

料导致工艺变化的主因。基于此，可以将这种引起工艺变化的原材料归为技术状

态项；

技术状态基2线

技术状态的管控当中，需要明确技术状态项在各个阶段的技术状态文件中的

名称、标识号、状态项内容及相应主体，其中技术状态文件必须随产品寿命周期

各个阶段予以递进，并随研制逐步深化而不断完备。各技术状态文件都需有表示，

且标识号必须具有唯一性，同时各技术文件均需按相应程序进行签署。针对科研

生产研制的不同过程，需分别编制可以反映其某一特定状态所确定下来的技术状

态文件。技术状态基线是在科研生产过程中的特定时期，由研制单位与用户方共

同认定，并作为今后相关活动开展基准的技术状态文件。在研制生产过程中应建

立三种基线，即：功能基线、分配基线和产品基线。随着科研生产过程研制的递

进，上述三种基线需渐进描述产品与其技术状态项，并为其后的研制开发提供过

程依据。基线如何予以确立需取决于科研生产中技术状态文件应形成编制审核的

时机，取决于技术状态文件何时被需求方确定作为科研生产单位的相关输入。在

基线形成之前，研制单位还应编制技术状态基线所需的文件管控清单目录，并且

功能基线与分配基线的主要使用要求需与产品的技术方案协调一致，而产品基线

应同该项目的技术管控文件要求及产品定型（或鉴定）其他要求保持一致。

技术状态3.简介以及管理。

Calibre是MentorGraphis公司开发的后端物理验证软件工具，其中包含了

DRC，LVS等解决集成电路设计中的物理验证问题。得益于它的平坦化和层次化，

大大有效的缩短了之前所需验证的过程。目前已经被业界普遍认证，作为tape

out之前的验证标准。其中DRC（DesignRuleCheck）是用来检查版图设计和工艺

规则的一致性。其中基本的规则包括各层（包括AA,POLY,CT,Metal）的宽度,相同

层次之间的间距以及不同层次之间的间距，包含关系等等。在特殊的设计需求下，

设计规则允许部分的弹性，但是设计人员需要评估违背规则对电路的影响。LVS

（LayoutVersusSchematic）是指编辑好的版图通过设计规则检查后，可能还存在

部分错误，这些错误时与电路图不一致导致，而不是违反了设计规则。由于设计

版图中少连了一根金属线都会对整个芯片来说都是致命打击，所以LVS检查必不

可少。由于DRC,LVS,这些技术文档一直会随着生产工艺参数变化而升版，所以如

何定期维护显得格外重要。

为此，一种专业的OTF在线申请和管理系统应运而生。在将客户的IP地址加

入白名单之后，便可以通过系统自动生成OTF客户登录系统的账号，客户可以自

行登录网页下载所需平台技术文档，待签核后便可以下载。其中OTF管理的技术

文档内容范围包括：

a.PDK/Runset数据SpiceModel（模型）、MiniArray等数据

b.LDR（逻辑电路设计规则）、ESD（静电击穿问题）、ESDGuideline、

LayerMapping等文书

c.DummyDeck（