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6
搪瓷制品和瓷釉术语第1部分:术语和定义
1.范围
本文件界定了搪瓷制品和瓷釉相关领域的术语和定义。
本文件适用于搪瓷制品和瓷釉及其相关领域的生产,设计,科技,贸易,检测和管理等。
2.规范性引用文件
本文件没有规范性引用文件。
3.术语和定义
3.1通用术语
3.1.1基础通用术语
3.1.1.1
搪瓷vitreousenamel;porcelainenamel珐琅enamel
通常是玻璃状无机二氧化硅为主体的材料熔凝于基体金属(3.1.1.5)上,并与金属形成牢固结合的复合材料。
3.1.1.2
搪玻璃glass-linedsteel;glasscoatedsteel;glassedsteel
具有较强的防腐蚀和耐温抗压性能的一类搪瓷,一般应用于化工领域。3.1.1.3
熔块frit
一定组成的无机原料经混合、熔融并急剧冷却后形成的无机玻璃质材料。
注:通常为粒状或薄片状,其中粒状熔块是由熔体排出到水中急冷而成,而薄片熔块是由熔体在水冷辊滚压下急冷而成。
3.1.1.4
瓷釉enamel
熔块经磨加黏土、电解质及氧化色料后得到的物料。3.1.1.5
基体金属substrate
用于表面涂覆瓷釉的金属材料。3.1.1.6
坯体basesubstrate
用于涂覆瓷釉的半成品的总称。
3.1.2制备通用术语
7
3.1.2.1
金属坯料metalblank
待制作成型件的金属材料。
3.1.2.2
金属毛坯blank
已切割的用于加工成品的未处理金属板。3.1.2.3
金属坯体metalbody
由金属坯料支撑或铸成的成型件。3.1.2.4
粉坯bisquebody
金属坯体上涂覆瓷釉尚未进行高温烧制的半成品。3.1.2.5
素坯whiteware
粉坯经高温烧制后得到的半成品。3.1.2.6
花坯decoratedware
素坯上用瓷釉装饰得到的半成品。3.1.2.7
配合料batch
按瓷釉组成配制的原料的混合物。3.1.2.8
熔体smelt
处于熔融状态的配合料。3.1.2.9
釉浆slip
由熔块(3.1.1.3)、水和其它调整性能的物质混合磨制而成的悬浮状物料。3.1.2.10
釉粉powderedfrit
由熔块磨制成的干粉料。
3.1.2.11
粉层bisque
经干燥后的粉坯涂层。3.1.2.12
静电干粉electrostaticpowder
涂有包裹剂的搪瓷粉末,该包裹剂可携带静电荷以传输一定粒径的粒子。3.1.2.13
干法铸铁搪瓷粉powderedenamel
可通过筛分或蘸涂施加到炽热的铸铁坯体上的瓷釉粉。注:不应与静电干粉混淆。
3.1.2.14
搪瓷制品enamelproduct
8
以搪瓷工艺制作的产品。3.1.2.15
搪玻璃设备glassedsteelequipment以搪玻璃工艺制作的设备。
3.1.2.16
熔制melting
配合料在高温下熔化成均匀熔体的过程。3.1.2.17
表面处理surfacetreatment
对金属坯体表面进行的除污、除锈及沉积膜层等的过程。3.1.2.18
涂搪enameling;application
在经过表面处理的金属坯体上均匀涂覆一层或多层瓷釉的操作。3.1.2.19
饰花decoration
在素坯表面用瓷釉装饰的过程。3.1.2.20
烧成firing;burning
粉层在规定温度下熔烧成搪瓷的过程。3.1.2.21
返修secondarytreatment
搪瓷生产过程中修复变形的坯体或受损的瓷釉涂层的工序。
3.1.3结构通用术语
3.1.3.1
瓷层enamelcoating
熔附于基体金属上的瓷釉。3.1.3.2
搪玻璃层glass-linedcoating熔附于基体金属上的搪玻璃釉。
3.1.3.3
底釉层groundcoat
对于多层搪瓷,直接与基体金属接触的瓷层。3.1.3.4
面釉层covercoat
对于多层搪瓷,涂覆于底釉层上的瓷层。3.1.3.5
密着层adhesivelayer
烧成后基体金属和底釉层之间形成的过渡层。3.1.3.6
气泡结构bubblestructure
9
烧成后瓷层中的气泡尺寸和空间分布。
3.1.4设备通用术语
3.1.4.1
熔炉melter
熔制瓷釉配合料的高温炉。3.1.4.2
烧成炉furnace
烧成搪瓷的高温炉。
3.1.4
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