半导体工艺之PVA刷擦洗 聚VA刷摩擦分析.pdfVIP

半导体工艺之PVA刷擦洗聚VA

刷摩擦分析

引言

本文简要综述了所提出的清洗机制。然后介绍了聚VA刷摩擦分析结果。在摩擦

分析中，刷的粘弹性行为、平板的表面润湿性以及刷的变形是重要的。此外，

我们还介绍了PVA电刷和接触面之间真实接触面积的可视化结果。在半导体器

件制造过程中，这次的专题“清洗与净化”是一个非常重要的事项。基本上半

导体工厂都是洁净室，各种工艺都是在极度受控的环境下使用的。

实验

用PVA刷摩擦表面的清洗机构并不那么简单。那是因为使含有非常多液体的刷

子在表面移动，因此提出了如图1所示的各种清洗模型。用液体和固体去除表

面存在的粒子，为正混相流。

图1粒子移动模型

另外，在这样的干洗中，据说粒子的除去性会根据进行洗涤的高分子（洗涤工

具）、要除去的粒子、以及被洗涤物表面各自之间的分子间力的大小的不同、

该高分子的形状而发生变化。例如对附着有二氧化硅粒子的PMMA平面（被清

洗物）进行清洗。面向壁虎自清洁机制的阐明，报道了活跃的研究成果“3-

7”O在利用模拟它们的高分子进行干洗（不使用液体的干燥状态下的粒子除

去）中，图2中显示。

图2加载-拖动-卸载运动中的干清洁

图3显示的是利用测压元件在板上压缩PVA电刷时的垂直力FX和变形的关系。

压入以应变进行0.1次，压入后维持其变形30秒钟，然后重复进一步压入的

动作。

图3P的常规和条纹关系

图4用不同类型的PVA刷进行了屏蔽碰撞后压缩，与其碰撞速度v发生了表

示了与垂直力Fv的关系。如图所示，垂直力随着谏度的增加急剧增加，根据

条件的不同，显示出了比Fig.3所示的准静态压缩时大近10倍的值。另外，

其上升量强烈依赖于所含水移动的难易程度。由于PVA刷一般由模具制成，因

此表面存在被称为表层的气孔率较小的层，水难以通过该层。因此，用这种层

复盖的类型a刷显示出较高的垂直力，用水难以排出但能够移动的类型c刷

显示出中间程度的值，而用水容易从没有表层的部分排出的类型b刷则没有

观察到很高的垂直力“91。这样，通过碰撞可以产生较高的垂直载荷。

类型a

移动操作器

图4压缩速度von正规态度的效果Fw

图4压缩速度V对正向力FN的影响。(a)实验设置和PVA电刷，(b)FN和V的

关系。PVA电刷的折动特性：对象物表面润湿性的影响在半导体制造工序中使

用的PVA刷中，有被称为辐刷，复盖整个晶片，一边在水平轴上旋转一边使用

的刷，也有薄板和块形状的刷，根据情况，有时在铅直轴上旋转一边使用。

其外观图如图5所示。

图5聚乙烯醇刷子

结果和讨论

关于PVA刷的擦洗清洗，着眼于其剪切力进行了介绍。根据我们的实验，PVA

电刷滑动时电刷与表面处于接触状态，剪切力因板的润湿性和电刷的变形状态

而有很大差异。另外，介绍了剪切力生成机构模型。近年来，人们强烈希望进

行非接触式洗涤。另一方面，也有一些清洗手法很难改变，比如广泛用于汽车、

飞机等的雨刷技术。通过PVA刷的擦洗清洁也与超声波、喷射清洁等共存，并

且预期它们在适当的材料和位置处继续使用。因此，需要进一步阐明关于每种

洗涤方法的详细洗涤机制。

总结

根据阿蒙顿-库仑定律，动摩擦是恒定的，而与滑动度无关。的确，铝的结果，

没有看到转速依赖性。另一方面，润湿性越差的材料，剪切力随转数而变化。

这被预测为来自真实接触面积。已知真实接触面积随着接触时间的推移而增加，

预计具有较长弛豫时间的PVA刷也同样增加真实接触面积。因此，我们认为，

随着转速的增加，摩擦系数减小。另外，结节碰撞时水的行为也有差异。预测

这些也影响了摩擦力的差异。由于摩擦系数的值都大于0.5，即使液体粘度增

加，摩擦系数的值也不会改变]，并且在剪切力的时间序列数据中经常观察到粘

滑现象，因此得出了PVA刷与表面直接接触的结论。