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《磁控溅射制备Al2O3过渡层ZnO薄膜及其性能研究》

一、引言

随着科技的进步，薄膜材料在众多领域中得到了广泛的应用。其中，ZnO薄膜因其优异的物理和化学性质，在光电子器件、传感器、太阳能电池等领域具有巨大的应用潜力。然而，ZnO薄膜的制备过程中，常常会遇到薄膜与基底之间的附着力差、薄膜内部应力大等问题。为了解决这些问题，研究者们开始尝试在ZnO薄膜与基底之间引入过渡层。本文采用磁控溅射法制备Al2O3过渡层ZnO薄膜，并对其性能进行了深入研究。

二、实验方法

1.材料与设备

实验所需材料包括铝靶、锌靶、氩气、氧气等。实验设备为磁控溅射设备。

2.制备过程

首先，在基底上制备一层Al2O