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双面抛光机床抛光盘静动态特性分析*

摘要：为解决传统抛光方法上下表面平行度无法保证和形成工件规律性同轴圆环痕迹的难题，文中设计了工件旋转

和二维运动独立控制的大口径光学元件双面快速抛光机床。采用ABAQUS有限元软件对其关键结构件抛光盘组件的静

动态特性进行了仿真分析。结果表明：加载后抛光盘最大等效应力为12.63MPa，最大形变量为8.26μm，能够满足工作

精度和工作强度的要求；通过模态仿真计算出抛光盘组件的固有频率高于79Hz，工作中不会出现共振情况，所建立的仿

真模型为抛光盘组件的研制提供了理论参考。

关键词：双面抛光；ABAQUS；抛光盘；静动态特性；仿真分析

Analysisonstaticanddynamiccharacteristicsofdouble-sided

polishingmachinetoolspolishingdisc

Abstract:Asforthetraditionalpolishingmethod,theparallelismoftheupperandlowersurfacescannotbeguaranteedand

theworkpiecessufferregularco-axialringmarks,alarge-diameteroptical-elementdouble-sidedrapidpolishingmachinetoolwith

theindependentcontrolofworkpiecerotationandtwo-dimensionalmotionisdesigned.Thepolishingdiscsstaticanddynamic

characteristicsaresimulatedwiththehelpoftheABAQUSfinite-elementsoftware.Theresultsshowthatafterthepolishingdiscis

loaded,themaximumequivalentstressis12.63MPaandthemaximumdeformationis8.26μm,whichcanmeettherequire-

mentsofprecisionandstrength.Throughmodalsimulation,itiscalculatedthatthepolishingdiscmodulesnaturalfrequencyis

greaterthan79Hz,andthereisnoresonance.Thesimulationmodelprovidestheoreticalreferenceforthedevelopmentofpolis-

hingdiscmodules.

Keywords:double-sidedpolishing;ABAQUS;polishingdisc;staticanddynamiccharacteristic;simulationandanalysis

光学窗口元件具有较大直径、较小厚度、较高表面工件旋转和二维运动独立控制的双面抛光机床[4]

O

面形精度和较低表面粗糙度等特点。目前，熔石英抛光盘是双面抛光机床的关键结构件，其静动态

超薄光学窗口元件的制造主要依靠环抛技术对上下两特性决定了设备的可靠性和工作精度。要完成大口径

个表面分别研磨抛光，采用这种方法制造的元件表面光学窗口元件的抛光加工，需要研制大尺寸高精度抛

质量虽然较高，但是两个表面分别制造，面形难以同时光盘。大尺寸抛光盘组件结构复杂，精度和稳定性要

保证，而且制造效率低[2-3],因此开发一种新型抛光设