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多束电子光学系统的研究现状与发展.pdf

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第42卷第3期电子显微学报Vol.42,No.3

2023年6月JournalofChineseElectronMicroscopySociety2023-06

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文章编号:10006281(2023)03037610

多束电子光学系统的研究现状与发展

1131,21,2∗1,2∗

张利新,赵伟霞,陈代谢,张雨露,刘俊标,韩立

(1.中国科学院电工研究所,微纳加工技术与智能电气设备研究部,北京100190;2.中国科学院大学,

电子电气与通信工程学院,北京100049;3.中国科学院条件保障与财务局,北京100864)

摘要本文对多束电子光学系统的国内外研究现状进行了详细调研,总结了各个系统的特点以及应用领域。

多束电子光学系统在生命科学领域、材料领域以及半导体领域具有广泛的应用价值,本文指出了我国需要开展这

方面研究的必要性。同时,本文介绍了国内在多束电子光学领域的研究进展。

关键词电子光学;多束电子光学;高通量;扫描电子显微镜

中图分类号:TN14;TN16;O463文献标识码:Adoi:10.3969/j.issn.10006281.2023.03.014

扫描电子显微镜(SEM)自1942年问世以来,已如果在一个SEM系统中获得几十到几百束电子束

经有近80年的历史,分辨率从最初的50nm提高到并保持与单束SEM相当的束斑质量,SEM的通量将

了现在的亚纳米量级,应用领域从最初的显微成像随之被提高几十到几百倍。这是目前提高通量的

[1][2][6]

扩展到电子束检测、四维成像以及原位检可行方案之一。早在1984年,Roelofs和Barth论

[34]证了多束电子光学光刻技术的可行性,并给出了相

测等,是显微成像领域不可替代的重要工具

之一。应的解决方案。目前多束SEM主要有四种多束电

随着SEM的发展,提高成像速度已成为一个重子光学结构形式,如图1所示。

要发展方向。提升高分辨成像速度存在着提高分第一种结构形式如图1a所示,将多个电子源小

辨率和增加单束束流的矛盾,即分辨率越高,越难型化并紧凑排列,再由单独的镜筒对每个子束进行

以获得高束流。这主要是成像速度和单个像素的独立控制,称之为多源多镜筒[711]。此种形式的优

亮度成反比,束流高可以保证短的驻留时间。在一点是不受库仑作用力和交叉斑的影响,分辨率会更

些实际应用中,需要在保证高分辨能力前提下缩短高。缺点是子束之间的间距比较大,限制其多束的

成像时间,提高设备的通量(Throughput),即单位时数目。此外,电子源之间很难做到发射一致、子束

间内能够形成高分辨图像的数量。例如,对一个之间的控制很难精确同步。

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