浸没光刻机照明系统光学元件应力双折射的多维探究与优化策略.docx

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2025-03-20 发布于上海
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浸没光刻机照明系统光学元件应力双折射的多维探究与优化策略.docx

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浸没光刻机照明系统光学元件应力双折射的多维探究与优化策略

一、引言

1.1研究背景与意义

在半导体制造领域，光刻技术一直是推动集成电路发展的核心技术之一。随着半导体器件尺寸不断缩小，对光刻技术的分辨率要求也越来越高。浸没式光刻技术作为当前光刻领域的关键技术，通过在投影物镜与硅片之间填充高折射率液体，有效地提高了数值孔径，从而突破了传统光刻技术的分辨率限制，成为实现先进制程芯片制造的关键。浸没式光刻机的应用，使得芯片制造商能够在更小的面积上集成更多的晶体管，极大地推动了芯片性能的提升和成本的降低，对整个半导体产业的发展起到了至关重要的作用。

在浸没式光刻机的照明系统中，光学元件的性能直接影响着