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焦面工程偏振成像非均匀校正的关键技术与应用研究

一、引言

1.1研究背景与意义

随着光学成像技术的不断发展，焦面工程偏振成像技术作为一种新兴的成像手段，在多个领域展现出了巨大的应用潜力。偏振成像利用光的偏振特性进行成像，能够获取物体的偏振度、偏振角等信息，这些信息在常规成像中往往被忽略，但却包含了丰富的物体特征，如材料特性、表面粗糙度、纹理结构等。与传统的强度成像相比，偏振成像能够提供更多维度的信息，从而在目标探测、识别和分析等方面具有独特的优势。

在军事领域，偏振成像技术可用于目标识别与伪装检测。许多伪装材料虽然在颜色和纹理上能够模拟自然背景，以躲避传统光学侦察手段的探测，但它们对光的偏振