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大流量条件下干式真空泵性能测量：方法创新与系统实现探究

一、引言

1.1研究背景

随着现代工业的快速发展，真空技术在各个领域的应用日益广泛，干式真空泵作为一种重要的真空获得设备，其性能的优劣直接影响到相关工业生产的质量和效率。在半导体制造、化工、制药等行业，对干式真空泵的需求持续增长，尤其是在大流量条件下，对干式真空泵的性能要求更为严格。

在半导体制造领域，随着芯片制造工艺不断向更高精度发展，对真空环境的要求也越来越高。大流量干式真空泵用于晶圆制造过程中的刻蚀、沉积等环节，能够快速有效地抽除工艺过程中产生的大量气体，确保真空环境的稳定和清洁，从而保证芯片制造的精度和质量。据统计，在先进的半导