铜基叠层柔性透明导电膜的制备与光电性能研究.pdf

哈尔滨工业大学硕士学位论文

摘要

随着柔性电子和光伏产业的不断发展，透明导电薄膜在多个领域的应用不

断扩大。然而，传统ITO透明导电薄膜的本质脆性已经无法满足未来市场的需

求。因此，基于金属Cu的叠层柔性透明导电膜成为一种具有应用潜力的新型柔

性透明材料。它结合了超薄金属和介质层的优良特性，同时具有优良的光电性

能、机械性能和工艺优势。

本文首先通过直流磁控溅射法制备了超薄金属薄膜，研究了溅射功率、时

间以及压强对薄膜光电性能的影响，分析了薄膜的生长机理，Cu膜的生长符合

Volmer-Weber岛状生长规律。采用溅射功率100W，溅射压强0.5Pa，溅射时间

9s得到了厚度为8nm的超薄Cu膜，平均透光度55%左右，平均方阻为35Ω/sq。

为了进一步改善超薄铜膜的光电性能及抗氧化性能，设计了

ZnO/Cu/PEDOT:PSS叠层结构，并利用COMSOL对叠层薄膜的透光率进行了模

拟。通过掺杂5%的乙二醇改善PEDOT:PSS溶液的导电性，使PEDOT:PSS层的

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导电性从39kΩ/sq降低至85Ω/sq左右；并通过设计L16(4)正交实验确定了合适

的旋涂工艺，旋涂PEDOT:PSS层的透光度达到了90%，方阻为70Ω/sq；AFM

分析发现PEDOT:PSS种子层可以抑制Cu在溅射时的迁移，从而获得更均匀细

小的团簇，表面粗糙度从PET衬底上的4.05nm降低至2.23nm。均匀且粗糙度

低的Cu膜使局域表面等离子震荡(LSPR)程度降低，透光度提升至75%，方阻降

低至17Ω/sq；通过增加ZnO介质层抑制Cu的反射，叠层薄膜的透光度进一步

提高至82%。

为了进一步提高铜基叠层薄膜的光电性能，在Cu/PEDOT:PSS薄膜的基础

上采用激光直写技术制备CuMesh/PEDOT:PSS叠层导电薄膜。首先采用

COMSOL模拟了不同网格尺寸的光电性能。探究了激光能量密度、扫描速度以

及Cu厚度对CuMesh/PEDOT:PSS复合薄膜光电性能的影响，确定了激光能量密

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度为2.91J/cm，扫描速度为400mm/s,Cu层厚度为200nm时薄膜具有最佳的

表面质量；通过实验发现，网格间距300μm，线宽20μm的叠层薄膜品质因数

最高达到了414.6，透光率85.8%，方阻仅为5.7Ω/sq。相较于超薄Cu膜，透光

率提升了56%，方阻降低了85.7%。通过弯折测试，CuMesh/PEDOT:PSS叠层薄

膜在弯折3000次仍然具有10%以下的方阻变化率，相比于CuMesh导电薄膜，

机械稳定性能提升了50%以上，显示出了较高的应用潜力。

关键词：柔性透明导电膜；叠层导电薄膜；磁控溅射；激光直写

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Abstract

Withthecontinuousdevelopmentofflexibleelectronicsandphotovoltaicindustry,

theapplicationoftransparentconductivefilminmanyfieldsisexpanding.However,

theintrinsicbrittlenessoftraditionalITOtransparentconductivefilmshasbeenunable

tomeettheneedsofthefuturemarket.Therefore,thelaminatedflexibletransparent

conductivefilmbasedonmetalCuhasbecomeanewflexibletransparentmaterialwith

a