《磨板与沉铜工艺培训讲义》.pptxVIP

磨板PTH培训教材;磨板沉铜工序培训内容;;磨板沉铜工序流程图;磨板机器设备;生产线流程图-粗磨机

接板;磨板作用;;1;E、磨板后质量检查;;;操作规范;NG;龙门式自动沉铜线;;;三、PTH各药水缸成份及其作用;（2）除胶缸（需空气搅拌、机械搅拌、机械摇摆或循环过滤）

作用：利用高锰酸钾的强氧化性，使板在此碱性槽中

将已被软化的胶渣及其局部的树脂进行氧化反

应，分解溶去；

反应方程式:4MnO4-+有机树脂+4OH-→4MnO42-+CO2↑+2H2O

2MnO42-+[1/2O2]+H2O2MnO4-+2OH-

药水成份：NaOH，开缸量为40-60g/L，最佳值为50g/L，

生产每千尺板需补加NaOH0.3kg;

W-202，开缸量为40-60g/L，最佳值为50g/L，

生产每千尺板需补加W-2021kg;

温度：75-85℃时间：12-18min（标准为15min）;;;;;（7）预浸缸

作用：为了不让板带任何杂质污物进入的钯缸，也防止带入

太多的水量，而导致发生意外的局部水解，以保护钯

缸；

药水成份：1、预浸盐CH-628R

开缸量为180-240g/L，最佳值为220g/L，

生产每千尺需补加CH-628R2.5kg；

2、HCL

开缸量为30-40（ml/L），最佳值为35（ml/L），

生产每千尺需补加HCL250ml；

温度：室温时间：1-4min（标准为2min）；

换槽：生产500尺/L时就应更重开新缸；

;;（8）二、活化缸（需机械搅拌和循环过滤）

温度：30-40℃处理时间：5-8min(标准7min)

反应方程式：PdCl2+SnCl2→PdSnCl4(中间态)

PdSnCl4→变成绿色锡离子

PdSnCl4+6PdCl2→SnPd7Cl16(催化剂)

负反应：Pd2++Sn2+→Pd0+Sn4+

(在酸液及氯离子保护下，才能稳定)

Sn4++9H2O→H2SnO3·6H2O+4H+

不能带入水，否则会水解。;碱性速化缸（需机械摇摆和循环过滤）

作用：将钯胶体已完美附着在孔壁基材上的皮膜及铜

面上的部分附着层，对其胶体内外皮进行一种

“剥壳剥皮”的动作，令其露出胶体中心的钯

来，使能与下一站的化学铜进行镀铜反应；

药水成份：1、CH-648A开缸量??10%（V/V）；

生产每千尺需补加CH-648A1.2L；

CH-648B开缸量为10g/L（V/V）；

生产每千尺需补加CH-648B120g；

温度：45-50℃处理时间：2-5min(标准3min）；

换槽：生产500尺/L时就应更重开新缸；;（10）一、化学薄铜缸（需机械摇摆、空气搅拌和循环过滤）

作用：在孔壁上镀上一层铜，为后面电镀做准备；

药水成份：1、CH-668A开缸量为7-9%（V/V）；

2、CH-668B开缸量为9-11%（V/V），

生产每60-100尺需补加CH-668A、CH-668B各1L；

3、CH-668M开缸量为10-15%（V/V），

成份控制范围：1、Cu2+，标准（2.2g/L)；

2、NaOH8-12g/L，标准（10g/L)；

3、HCHO5-7g/L，标准（6g/L)；

温度：30-40℃处理时间：15-18min（标准18min）

;（10）二、化学铜缸（需机械摇摆、空气搅拌和循环过滤）

化学反应方程式：

1、正反应：Pd催化及碱性条件下，甲醛分离

（解）下（氧化）而产生甲酸根阴离子