铬掺杂氧化锌烯磁半导体薄膜：制备工艺、结构表征与磁性机理探究.docx

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2025-10-19 发布于上海
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铬掺杂氧化锌烯磁半导体薄膜：制备工艺、结构表征与磁性机理探究.docx

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铬掺杂氧化锌烯磁半导体薄膜：制备工艺、结构表征与磁性机理探究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代材料科学与信息技术飞速发展的大背景下，稀磁半导体（DilutedMagneticSemiconductors,DMS）作为一种新型的功能材料，因其独特地融合了半导体的电学、光学特性与磁性材料的磁学特性，即在一种材料中同时应用电子电荷和自旋两种自由度，而备受瞩目，成为材料领域的研究热点之一。从实际应用角度来看，以半导体材料为基础构建的大规模集成电路，在信息处理和传输领域展现出空前的规模和高频率性能，充分利用了电子的电荷属性；而信息存储领域，如磁带、光盘、硬盘等，则主要依赖磁性材料，极大地发