圆形平面永磁电磁复合式磁控溅射阴极的设计与等离子体特性研究.docx

圆形平面永磁电磁复合式磁控溅射阴极的设计与等离子体特性研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代材料科学与工程领域，薄膜材料凭借其独特的物理、化学性能，如良好的耐磨性、耐腐蚀性、光学特性以及电学性能等，被广泛应用于电子、光学、机械、航空航天等众多产业。例如，在电子芯片制造中，薄膜材料用于构建电路连接和绝缘层；在光学镜头上，薄膜可实现增透或反射特定波长光的功能；在航空发动机叶片表面镀制的耐高温、耐腐蚀薄膜，能显著提升其使用寿命和性能。磁控溅射技术作为一种重要的薄膜制备方法，与其他薄膜制备技术（如化学气相沉积、物理气相沉积中的蒸发镀膜等）相比，具有诸多优势。它能够在较低的温度下进行沉积，这对