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高反射介质膜光学镀膜技术主讲人:颜劲仁
光学镀膜技术
金属反射膜
大多数金属反射膜存在着膜层与基底的附着能力差,化学稳定性差,膜层质地软、易划伤等缺点,需要镀制额外的中间膜层和保护膜层,增强金属膜的附着力和对金属膜层进行保护。高反射介质膜
由于金属反射膜存在着吸收损失,反射率有上限,对于性能要求较高的多光束干涉仪和激光器谐振腔等仪器使用的高反射镜,金属膜难于满足高反射率和低吸收率的要求。
全介质反射膜
高反射介质膜的发展可以追溯到20世纪初,由于金属膜存在着容易氧化、耐久性差等问题,人们开始探索提高光学元件反射率的镀膜技术。20世纪初高反射介质膜
随着激光技术的发展,对反射镜性能的要求越来越高。尤其是在高功率激光应用中,传统的金属膜反射镜已经无法满足需求,研究人员开始探索使用多层介质膜来替代金属膜,以实现更高的反射率和更好的耐久性。20世纪初高反射介质膜
多层介质膜技术开始被广泛研究和应用。通过在基底表面交替沉积高折射率和低折射率的材料层,利用干涉相长原理来提高反射率。可以实现比金属膜更高的反射率,并且具有更好的耐久性和抗激光损伤能力。20世纪60年代高反射介质膜
多层介质膜技术不断发展和完善。研究人员通过优化膜层的设计和制备工艺,进一步提高了反射率和抗激光损伤能力。随着新材料的不断涌现,多层介质膜的性能得到了进一步提升。在接下来的几十年里高反射介质膜
根据单层介质膜反射率的计算公式可以知道,单层介质膜能够实现的反射率极其有限,可以通过增加介质膜的层数来提高反射率。
主要作用:以较高的反射率反射入射光。通过多光束干涉效应来实现高反射率,通常高反射介质膜选择膜材的折射率高于基底的折射率。高反射介质膜高反射介质膜采用多层介质薄膜结构,由多种介质层交替堆积在基板上组成。
在基板上镀折射率高低交替变化的多层λ/4介质膜可以获得较高的反射率。从理论上可以证明,在使用相同多膜层的条件下,λ/4膜堆比非λ/4膜堆得到的反射率要更高。G表示基底,折射率为ng。H和L表示厚度为λ/4的高折射率和低折射率的膜层,折射率分别为nH和nL。A为入射介质(通常指空气或自由空间)。s为膜层的周期数。设λ/4膜堆结构为:G│(HL)sH│A等效光学导纳:高反射介质膜
根据介质膜反射率的计算公式,可以得到该周期介质膜在空气中的反射率:随着膜层数目增多,反射率增大。对于周期性的介质膜,可以通过增加介质膜的层数提高反射率。高反射介质膜
当介质膜的层数较多,且满足等效光学导纳远远大于1时:高反射介质膜反射率计算式:透射率的计算式:当膜系的反射率很高时,额外增加两层膜可以使膜系的透过率减少为原来的(nL/nH)2。
当介质膜的层数较多,且满足等效光学导纳远远大于1时:高反射介质膜反射率计算式:透射率的计算式:从理论上看,只要增加膜系的层数,反射率可以无限地接近100%。由于介质膜存在着吸收、散射等损失,膜系的反射率不会无限的提升。
多层介质膜存在着反射相移变化和只在有限的波段区域内可以得到高反射率的缺点。
对于周期性的多层膜,它的特征矩阵如下式所示:高反射带的宽度结论1.满足条件的波长,位于膜系反射带内,其反射率随着膜层周期数的增加而稳定地提高。
对于周期性的多层膜,它的特征矩阵如下式所示:高反射带的宽度结论2.满足条件的波长,位于膜系透射带内,其反射率随着膜层周期数的增加而振荡。
对于周期性的多层膜,它的特征矩阵如下式所示:高反射带的宽度结论3.满足条件的波长是高反射带和高透射带的拐点波长,也称为截止波长。
各高级次反射带的波数宽度相同,波长宽度不同,级次越高,波长宽度越窄,相应的高反射区域波长范围:周期膜系(HL)sH的周期性光谱特性高反射带的宽度
周期膜系(HL)sH的周期性光谱特性高反射带的宽度△g为高反区带宽的一半其计算式如下:高反区的带宽主要与两种周期介质膜的折射率有关。
高反射介质膜广泛应用于光学的各个领域,如在激光光学中,高反射介质膜用于激光腔镜、折叠激光光束路径等。高反射介质膜
在光学仪器中,高反射介质膜可用以高性能的多光束干涉仪,以保证测量精度。高反射介质膜
在航空航天领域,高反射介质膜可用于高精度的光学系统,如卫星通信和遥感设备。高反射介质膜
小结高反射介质膜的发展历程。高反射介质膜的反射率计算。从高反射介质膜的特征矩阵出发介绍了高反射介质膜的特性和高反射区宽度。
想一想,如何扩展高反射介质膜高反射区的宽度?思考题
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