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提高膜层性能的工艺途径光学镀膜技术主讲人：王建敏

光学镀膜技术

如何提高膜层性能呢？

提高膜层性能的工艺途径

膜层性能受多种因素影响

真空室内残余气体分子会影响膜层附着性能、结构和性质。提高膜层性能的工艺方法真空度优化真空度真空度对膜层的影响：

提高膜层性能的工艺方法真空度优化真空度真空度对膜层的影响：残余气体主要来源：抽真空系统极限压强的限制而遗留的一部分气体。真空系统的漏气。真空室内各种材料表面的放气、真空泵油与扩散泵油分解的碳氢化合物等。

在薄膜工艺中，不同的镀膜方法，需要的真空度不同，一般情况下，光学薄膜要求在10-3Pa的真空度镀制。优化真空度

提高膜层性能的工艺方法真空度优化真空度真空度对膜层的影响：提高真空度，能减少残余气体对蒸发膜料分子的碰撞和污染，从而提高膜层纯度。增强膜层附着力和致密性。

提高膜层性能的工艺方法真空度优化真空度提高真空度的工艺方法：获得真空的主要设备包括机械泵、扩散泵、罗茨泵、低温泵等。可以采用现代化的真空获得设备。利用深冷技术除去残余气体，主要应用于室温基底上的沉积镀膜。

清洁基片对膜层影响：基片表面的脏物会减小附着力，形成疵病，影响光学性能。提高膜层性能的工艺方法基片表面清洁度至关重要。基片表面污染来源：玻璃基片表面污染可能源于储存时间长产生的水渍、油斑，工作环境中的灰尘，离子轰击形成的斑点等。

清洁基片工作环境要求：使用基片时要对表面清洁，保持工作环境清洁，必要时建立无尘工作间。提高膜层性能的工艺方法基片表面清洁度至关重要。清洁方法：清洁方法有擦拭、用细粉更新，还需离子轰击，既能清洁表面，又能提高膜层附着能力。

提高膜层性能的工艺方法基底温度对膜层影响很大。控制基底温度温度对膜层结构和性能的影响：影响膜层的结构、密度、颗粒大小、应力等。聚集密度随基片温度升高而增加，能提高膜层牢固度，但温差过大又会使膜层产生内应力，导致龟裂或脱落。

提高膜层性能的工艺方法基底温度对膜层影响很大。控制基底温度不同薄膜的温度特性：铂、铬等金属膜，基底温度升高反射率增加。铝、银膜温度太高则会使膜面粗糙。选择最佳基底温度的要点：需理论和实验结合。通常依靠烘烤来提高基底温度。

调整蒸发速率蒸发速率与膜层结构的关系：沉积速率慢，膜层颗粒粗大、空隙多。沉积速率过快，颗粒虽连接成致密薄膜，但厚度薄。提高膜层性能的工艺方法蒸发速率同样影响膜层性能。对膜层纯度的影响：提高沉积速率能减少膜料中残余气体含量，降低污染。要获得高纯度膜，除提高真空度外，还需快速蒸发。

获得致密膜层的新技术

离子束辅助沉积镀膜方法（IBAD）新技术助力膜层性能提升能消除柱状结构，提高聚集密度，改善膜层质量。在原有真空镀膜设备上添加宽束离子源即可实现。使用该技术时，要处理好工作室真空度、基片加热温度等工艺参数之间的关系。

通过使膜料粒子带电定向加速沉积，能获得非常致密的膜层，在光学薄膜制造领域有很大应用潜力。新技术助力膜层性能提升溅射和离子镀技术

在生产高端相机镜头时，优化镀膜工艺能提高镜头的透光率、减少反射，让拍摄的照片更清晰、色彩更真实。提高膜层性能的工艺途径

在光学镀膜相关职业岗位中，如光学镜片制造、光学仪器生产等行业，掌握提高膜层性能的工艺途径至关重要。提高膜层性能的工艺途径

小结提高膜层性能的多种工艺途径，包括控制真空度、保证基片表面清洁、选择合适基底温度、控制蒸发速率，以及离子束辅助沉积、溅射和离子镀等新技术。

在实际镀膜过程中，如果膜层出现了附着力不足的问题，可能是哪些工艺环节出了问题？应该如何解决？思考题