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原子层沉积氧化铝钝化：原理、特性与多元应用的深度剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

在材料科学与工程领域，材料的表面性能对其整体性能和应用效果起着关键作用。随着科技的飞速发展，对材料性能的要求日益提高，如何有效改善材料表面性能成为研究的重点方向之一。原子层沉积（AtomicLayerDeposition，ALD）作为一种能够在原子尺度上精确控制薄膜生长的技术，近年来在材料表面改性方面展现出独特优势。

原子层沉积氧化铝钝化技术，是指通过原子层沉积工艺在材料表面生长一层氧化铝薄膜，利用氧化铝薄膜的特殊性质来提高材料的表面性能，实现对材料的钝化保护。氧化铝薄膜具有高的固定负电荷浓度，可达10