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大面积高精度磁控溅射匀胶铬版技术总结报告
2002-10-08
一、研制依据
1、市场需求:近年来国内LCD产业迅速发展,用菲林作为光掩膜版已不能
满足生产需求,必须寻找一种比菲林掩模精度更高、稳定性更好、使用
更长更适用于大规模生产使用的光掩模。即大面积高精度光刻掩膜
版。
2、技术储备:美精微是菲林掩模专业厂家,在多年的研发生产过程中,掌
握了CAD/CAM技术及菲林掩模、铬版制作等生产工艺。同时,本公司培
养了一批设计、安装和工艺方面的技术骨干,形成了较强的研究、开发
和生产的技术队伍。
结合以上情况,我们看到了一个光明的前景,设计方案如下:
CAD/CAM——菲林——拷贝铬版
镀制铬版
CAD/CAM——激光直写光刻——光刻铬版
3、国内外现状:拷贝铬版和光刻铬版制作都须以光刻掩模版版材——即大
面积高精度匀胶铬版为原料。目前世界范围内,大面积高精度匀胶铬版项
目产品的技术、生产主要由2家公司控制(Ulcoat和Clean
Surface)。他们是大陆Cr版掩膜版生产企业(美精微、清溢)以及
、、新加波和、欧洲等厂家的唯一供应,其生产周期长
(2个月左右)并价格昂贵(USD500USD1200/片)。
在国内,因为进行这个项目的生产研制投资大、周期长、技术要求高,
配套设备都须从国外引进,因此,很少有企业能涉足这一领域。同时,抛
光、检验、镀膜技术一直是众多生产厂家的瓶颈。因此大面积光刻铬版原
材料生产——匀胶铬版的制造尚处于萌芽阶段。
国内研制本项目所采用的方式以及具体研制情况如下:
公司名称生产产品尺寸成膜条件研发状态
长沙韶光光刻铬版版材小尺寸热蒸发主要致国于IC生产用的
微电子总IC用小铬版生产,也有少量大尺
公司寸铬版生产,但未形成大铬
版生产线及成套工艺
福州光学光刻铬版版材小尺寸热蒸发研究室小批量研制
美精光刻铬版版材大尺寸磁控溅射掌握成套工艺,有中试
微生产线,已稳定生产小批量
产品
综合上述,美精微决定借助自已的研发力量率先运用磁控溅射的技
术,开发出自己的高精度光刻铬版掩模版的原材料——大面积高精度匀胶铬
版。用以打破国际市场的,替代进口,自产自用同时用于对外销售,为
光刻铬版原材料贡献一份力量,为国内平板显示器专业制版厂家造
福。
因此,经公司多次研究及调研,决定组建匀胶铬版制造用镀膜生产线。二、
研制过程
1、技术方向
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