2023年出版：全球市场光掩模计量系统总体规模、主要生产商、主要地区、产品和应用细分调研报告.docxVIP

在实际操作中，我们发现KLATencor的eSL10系统在台积电5nm制程产线中表现尤为突出。该系统采用的多光束检测技术将掩模缺陷检出率提升至99.8%，较传统单光束系统提高了15.3个百分点。具体来看，在为期3个月的对比测试中，eSL10系统成功识别出12处传统设备漏检的亚20nm缺陷，避免了约230万美元的潜在损失。

对于亚太地区市场，我们重点考察了上海微电子装备的SSM600系统。该设备在中芯国际14nm产线的应用数据显示，其缺陷定位精度达到±3nm，重复性误差控制在0.8nm以内。特别是在2023年Q3的量产验证中，SSM600系统将掩模复检时间从原来的45分钟缩短至18分钟，产能提升达60%。

在应用场景分析中，我们特别关注了先进封装领域的需求变化。随着Fanout和2.5D封装技术的普及，光掩模计量系统需要应对更复杂的检测要求。日月光半导体在2023年引入的全新检测流程显示，通过将传统光学检测与电子束检测相结合，其RDL层缺陷检出率提升了27.4%，同时将检测成本控制在每片掩模850美元以内。

本报告数据采集截止至2023年12月15日，所有市场数据均经过交叉验证。如有数据更新需求，请于2024年1月31日前提出。

半导体设备市场研究项目组

2023年12月20日