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透明导电ITO薄膜的制备工艺优化及在微波屏蔽与吸收领域的应用拓展研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技飞速发展的时代，电子设备的广泛应用给人们的生活带来了极大的便利，但同时也引发了日益严重的电磁干扰（EMI）问题。这些电磁干扰不仅会对电子设备的正常运行造成影响，导致设备故障、性能下降，还可能对人体健康产生潜在危害。例如，长期暴露在高强度电磁辐射环境下，可能会干扰人体的神经系统、免疫系统等。因此，开发高效的微波屏蔽与吸收材料，以应对电磁干扰问题，成为了材料科学领域的研究热点之一。

氧化铟锡（ITO）薄膜作为一种重要的透明导电材料，在众多领域展现出了卓越的性能和广泛的应用前景。在平板