韦森堡效应赋能电纺直写：射流约束与定位沉积的实验探索.docx

下载文档

0
0
约2.05万字
约 17页
2025-12-04 发布于上海
举报
版权申诉
保障服务

韦森堡效应赋能电纺直写：射流约束与定位沉积的实验探索.docx

1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。

韦森堡效应赋能电纺直写：射流约束与定位沉积的实验探索

一、引言

1.1研究背景与意义

在材料科学与微纳制造领域，电纺直写技术作为一种能够在微纳尺度上精确操控材料沉积的方法，近年来受到了广泛的关注。该技术通过在聚合物溶液或熔体上施加高压电场，使其克服表面张力和粘滞阻力，从泰勒锥尖端喷射出射流，利用射流稳定直线阶段实现有序微纳结构的喷印。这种技术具有设备简单、成本低、可加工材料种类多等优点，且能够实现三维结构的直接制造，为微纳制造领域提供了一种全新的解决方案。从生物医学领域来看，组织工程和药物输送系统的发展对材料的结构和性能提出了特殊要求。高度有序的微纳纤维结构能够模拟细胞外基质的环境，促进细胞