原创力文档- 1、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
- 2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
工艺体硅微加工技术;优选工艺体硅微加工技术;腐蚀工艺简介;大部分的微加工工艺基于“Top-Down”的加工思想。
“Top-Down”加工思想：通过去掉多余材料的方法，实现结构的加工。（雕刻——泥人）;;第6页，共46页。;湿法腐蚀;湿法腐蚀——方向性;各向异性腐蚀和各向同性腐蚀;;第11页，共46页。;第12页，共46页。;硅的各向异性腐蚀;硅的各向异性腐蚀技术;湿法腐蚀的化学物理机制;湿法腐蚀的化学物理机制;;各向异性腐蚀的特点：
腐蚀速率比各项同性腐蚀慢，速率仅能达到1um/min
腐蚀速率受温度影响
在腐蚀过程中需要将温度升高到100℃左右，从而影响到许多光刻胶的使用;各向异性腐蚀液;1.KOHsystem;1.KOHsystem;2.EDPsystem;EDP腐蚀条件;3、N2H4（联氨、无水肼）;4、TMAH;腐蚀设备;硅和硅氧化物典型的腐蚀速率;影响腐蚀质量因素;?111?面凹角停止;?110?方向硅片的腐蚀特点;第31页，共46页。;(1)溶液及配比
;(2)温度;各向同性腐蚀;优点：
无尖角，较低应力
刻蚀速度快
可用光刻胶掩膜;第36页，共46页。;三、自停止腐蚀技术;（1）重掺杂自停止腐蚀(KOH和EDP：5?1013/cm3)
（2）(111)面停止
（3）时间控制
（4）P-N结自停止腐蚀
（5）电化学自停止腐蚀;自停止腐蚀典型工艺流程;1、薄膜自停止腐蚀;3、（111）面自停止腐蚀;（111）面自停止腐蚀工艺流程;腐蚀保护技术;第44页，共46页。;薄膜残余应力问题;谢谢大家！
文档评论（0）